[发明专利]一种新型纳米臭氧接触氧化装置及其工艺流程

权利要求书

1.一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于，包括主反应区(2)、进水管路(4)、进臭氧管路(5)和主纳米功能膜(6)；

所述进水管路(4)和所述进臭氧管路(5)自所述主反应区(2)的外部连通至内部，所述臭氧管路的进气口连通有臭氧发生装置(7)，所述臭氧管路的出气口上方设有所述主纳米功能膜(6)，所述主反应区(2)的出口位于所述主反应区(2)的上部。

2.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述臭氧管路的出气口位于所述主反应区(2)的下部。

3.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：还包括有副反应区(3)，所述副反应区(3)设有气水分离管路、副纳米功能膜(9)和出水口(10)；所述气水分离管路包括主路、气路(8)和水路(1)，所述主路的进端与所述主反应区(2)的出口连通，所述气路(8)的进口自上方连通至所述主路的出口，所述水路(1)的进口自下方连通至所述主路的出口，所述气路(8)的出口上方设有所述副纳米功能膜(9)，所述出水口(10)设置于所述副反应区(3)的上部。

4.根据权利要求3所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述气路(8)的出口位于所述副反应区(3)的下部。

5.根据权利要求3所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述纳米功能膜位于所述进水管路(4)和/或所述水路(1)的出口上方。

6.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述臭氧发生装置(7)的进气源为氧气和/或空气，所述臭氧发生装置(7)臭氧出口压力为0.01MPA-0.07MPA。

7.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述主纳米功能膜(6)和/或副纳米功能膜(9)与臭氧接触时间为5-60min。

8.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述纳米功能膜的孔径为1nm-1000nm，所述纳米功能膜为无机非金属膜材质。

9.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化装置，其特征在于：所述纳米功能膜为板式膜、管式膜或者卷式膜。

10.根据权利要求1所述的一种新型纳米臭氧接触氧化工艺流程，其特征在于：步骤如下：

S1，将臭氧通入主反应区(2)内，臭氧在主反应区(2)内的主纳米功能膜(6)的催化作用下与主反应区(2)内液体反应，形成初级反应混合液体；

S2，所述初级反应混合液体经过水气分离管路形成分离液体和分离气体；

S3，所述分离液体进入副反应区(3)，所述分离气体在副反应区(3)内的副纳米功能膜(9)的催化作用下与副反应区(3)内的液体反映，得到最终氧化液体。