[发明专利]天线装置及移动终端有效

专利信息
申请号: 202010331335.7 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN113555674B 公开(公告)日: 2023-03-17
发明(设计)人: 李杰山;周昌文 申请(专利权)人: 深圳市万普拉斯科技有限公司
主分类号: H01Q1/24 分类号: H01Q1/24;H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/52
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 黄丽
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 天线 装置 移动 终端
【权利要求书】:

1.一种天线装置,其特征在于,包括:

第一天线单元(110)和第二天线单元(120),用于获取或发射射频信号;

去耦单元(130),设于所述第一天线单元(110)和所述第二天线单元(120)之间,用于产生解耦信号以对所述第一天线单元(110)和所述第二天线单元(120)解耦,所述去耦单元(130)还用于获取感应电容变化信号;所述去耦单元(130)包括寄生单元以及电容C1,所述电容C1的一个极板与所述寄生单元连接,所述电容C1的另一个极板与地线GND连接;或,所述去耦单元(130)包括开口谐振环;

所述开口谐振环用于对第一天线单元(110)和第二天线单元(120)进行解耦,所述开口谐振环还用于获取感应电容变化信号;

若所述寄生单元用于对所述第一天线单元(110)和所述第二天线单元(120)进行解耦,则所述寄生单元内产生所述解耦信号,且所述寄生单元通过所述电容C1与所述地线GND导通;

若所述寄生单元用于获取所述感应电容变化信号,则所述寄生单元内产生所述感应电容变化信号,且所述寄生单元通过所述电容C1与所述地线GND断开,并将所述感应电容变化信号输出至第一隔离电路(140);

所述第一隔离电路(140),与所述去耦单元(130)连接以接收所述解耦信号及所述感应电容变化信号,用于对所述解耦信号进行滤波处理,以隔离所述解耦信号,并将所述感应电容变化信号输出;

所述第一隔离电路(140)包括:

电感L1,所述电感L1的一端与所述去耦单元(130)连接,所述电感L1的另一端用于输出所述感应电容变化信号;

电容C2,所述电容C2的一个极板与所述去耦单元(130)连接,所述电容C2的另一个极板与地线GND连接;

其中,电容C2的一个极板与电感L1的一端连接,即电容C2的一个极板连接于电感L1的一端与去耦单元(130)之间;电容C2的另一个极板与地线GND连接;或,电容C2的一个极板与电感L1的另一端连接,即电容C2的一个极板连接于第一隔离电路(140)的输出端,即OUT端;电容C2的另一个极板与地线GND连接;

所述第一天线单元(110)包括:

第一辐射臂(112),用于获取或发射射频信号,所述第一辐射臂(112)还用于获取所述感应电容变化信号;

第一馈电线(114),所述第一馈电线(114)的一端与所述第一辐射臂(112)连接,所述第一馈电线(114)用于获取所述感应电容变化信号;

第一信号源(116),与所述第一馈电线(114)的另一端连接,以通过所述第一馈电线(114)向所述第一辐射臂(112)输出射频信号;

所述天线装置(10)还包括:

第二隔离电路(150),与所述第一馈电线(114)连接,以隔离所述射频信号,所述第二隔离电路(150)还用于获取所述感应电容变化信号并输出。

2.根据权利要求1所述的天线装置,其特征在于,所述去耦单元(130)的延伸方向包括第一方向、第二方向和第三方向中的至少一个,所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向彼此垂直。

3.根据权利要求2所述的天线装置,其特征在于,所述去耦单元(130)包括立方体形状、三棱锥形状或圆柱状。

4.根据权利要求3所述的天线装置,其特征在于,当人体从不同方向靠近去耦单元(130)时,去耦单元(130)获取感应电容变化信号。

5.根据权利要求2所述的天线装置,其特征在于,所述开口谐振环为包括多个电容的谐振电路;所述开口谐振环的材料包括金属。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的天线装置,其特征在于,所述射频信号以及所述解耦信号为高频信号,所述高频信号包括频率处于300KHz到300GHz之间的电磁波信号。

7.根据权利要求1所述的天线装置,其特征在于,所述第一辐射臂(112)沿第一方向和第二方向延伸;

所述第一馈电线(114)沿第三方向延伸,且所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向彼此垂直。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市万普拉斯科技有限公司,未经深圳市万普拉斯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010331335.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top