[发明专利]一种基于纳米压印光刻的双面金属转印方法及相关装置

权利要求书

1.一种基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，包括：

提供第一刚性衬底和第二刚性衬底，其中，所述第一刚性衬底的压印表面具有第一金属图案层，及所述第二刚性衬底的压印表面具有第二金属图案层；

将所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底的压印表面相对设置，且放置一柔性衬底至所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底之间，所述柔性衬底朝向所述第一刚性衬底的第一表面和朝向所述第二刚性衬底的第二表面具有液体胶层；

调整所述第一金属图案层和所述第二金属图案层对准后，将所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底与所述柔性衬底压合固定；

固化所述液体胶层为粘接层；

分离所述第一刚性衬底与所述第一金属图案层，及分离所述第二刚性衬底与所述第二金属图案层，所述第一金属图案层通过所述粘接层固定在所述柔性衬底的第一表面，及所述第二金属图案层通过所述粘接层固定在所述柔性衬底的第二表面。

2.根据权利要求1所述的基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，在所述第一刚性衬底的压印表面形成所述第一金属图案层前，还包括：

在所述第一刚性衬底的压印表面形成第一抗黏层；

在所述第一抗黏层背离所述第一刚性衬底一侧表面形成所述第一金属图案层；

以及，在所述第二刚性衬底的压印表面形成所述第二金属图案层前，还包括：

在所述第二刚性衬底的压印表面形成第二抗黏层；

在所述第二抗黏层背离所述第二刚性衬底一侧表面形成所述第二金属图案层。

3.根据权利要求2所述的基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，在所述第一刚性衬底的压印表面形成第一抗黏层包括：

将抛光后的所述第一刚性衬底浸入全氟癸基三氯硅烷溶液中预设时间；

取出所述第一刚性衬底进行烘烤，以在所述第一刚性衬底的压印表面形成所述第一抗黏层；

以及，在所述第二刚性衬底的压印表面形成第二抗黏层包括：

将抛光后的所述第二刚性衬底浸入全氟癸基三氯硅烷溶液中预设时间；

取出所述第二刚性衬底进行烘烤，以在所述第二刚性衬底的压印表面形成所述第二抗黏层。

4.根据权利要求2所述的基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，在所述第一抗黏层背离所述第一刚性衬底一侧表面形成第一金属图案层包括：

在所述第一抗黏层背离所述第一刚性衬底一侧表面蒸镀第一金属层；

在所述第一金属层背离所述第一刚性衬底一侧表面形成图案化的第一光刻胶层；

以所述第一光刻胶层作为掩膜，对所述第一金属层进行图案化处理，形成所述第一金属图案层；

去除所述第一光刻胶层；

以及，在所述第二抗黏层背离所述第二刚性衬底一侧表面形成第二金属图案层包括：

在所述第二抗黏层背离所述第二刚性衬底一侧表面蒸镀第二金属层；

在所述第二金属层背离所述第二刚性衬底一侧表面形成图案化的第二光刻胶层；

以所述第二光刻胶层作为掩膜，对所述第二金属层进行图案化处理，形成所述第二金属图案层；

去除所述第二光刻胶层。

5.根据权利要求1所述的基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，调整所述第一金属图案层和所述第二金属图案层对准，包括：

调整所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底之间相对距离为预设距离；

通过显微镜检测所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底上的对准标记；

根据所述显微镜检测的对准标记信息，调整所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底相对位置，以调整所述第一金属图案层和所述第二金属图案层对准。

6.根据权利要求1所述的基于纳米压印光刻的双面金属图案转印方法，其特征在于，将所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底与所述柔性衬底压合固定，包括：

控制所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底朝向所述柔性衬底移动，使得所述第一金属图案层和所述第二金属图案层与所述柔性衬底的液体胶层接触；

控制所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底向所述柔性衬底施加预设压力，以将所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底与所述柔性衬底压合固定。