[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置有效
申请号: | 202010332566.X | 申请日: | 2020-04-24 |
公开(公告)号: | CN111477761B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 张国苹 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | H10K50/82 | 分类号: | H10K50/82;H10K71/00;H10K59/12 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;冯建基 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制备 方法 面板 显示装置 | ||
1.一种显示基板,包括基板,所述基板上设置有阵列排布的像素单元,所述像素单元包括依次叠置于所述基板上的阳极、发光功能层和阴极,所述基板上还设置有像素界定层,所述像素界定层中开设有开口,所述开口处暴露部分所述阳极;所述发光功能层位于所述开口中;所述阴极还延伸至覆盖部分所述像素界定层,所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲,其特征在于,所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠,所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置设置为镂空区;
所述发光功能层在所述基板上的正投影覆盖所述阴极的所述镂空区在所述基板上的正投影区域;
所述发光功能层和所述阳极在所述基板上的正投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一方向为所述阵列的行方向或列方向。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域分别沿第二方向等宽度延伸的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合;
所述宽度为所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域各自沿所述第一方向的尺寸;
当所述第一方向为所述阵列的行方向时,所述第二方向为所述阵列的列方向;或者,当所述第一方向为所述阵列的列方向时,所述第二方向为所述阵列的行方向。
5.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及沿所述第一方向相邻的两所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。
6.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第一方向为所述阵列的行方向,所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两列所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合;
或者,所述第一方向为所述阵列的列方向,所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两行所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括多个隔垫物,所述隔垫物对应设置于所述像素界定层所在区域,且位于所述像素界定层的背离所述基板的一侧;
所述基板包括基底和设置于所述基底上的像素驱动电路,所述像素界定层和所述像素单元位于所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧,所述像素驱动电路与所述像素界定层和所述像素单元之间还设置有平坦层。
8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述阳极采用透明金属氧化物材料,所述阴极采用导电金属或导电金属合金材料。
9.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-8任意一项所述的显示基板,还包括封装层,所述封装层与所述显示基板对合,以对所述显示基板中的像素单元进行封装。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求9所述的显示面板。
11.一种显示基板的制备方法,包括在基板上形成像素单元,所述像素单元阵列排布;形成所述像素单元包括依次在所述基板上形成阳极、发光功能层和阴极的步骤;所述制备方法还包括在所述基板上形成像素界定层及所述像素界定层中的开口,所述开口处暴露部分所述阳极;所述发光功能层位于所述开口中;所述阴极还延伸至覆盖所述像素界定层,所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲,其特征在于,所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠,所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置形成为镂空区;
所述发光功能层在所述基板上的正投影覆盖所述阴极的所述镂空区在所述基板上的正投影区域;
所述发光功能层和所述阳极在所述基板上的正投影重合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010332566.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。