[发明专利]一种具有容性耦合结构的介质滤波器在审

专利信息
申请号: 202010333203.8 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111370822A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 沈晓宇;廖园富 申请(专利权)人: 湖州东尼新材有限公司;浙江东尼电子股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20
代理公司: 杭州昱呈专利代理事务所(普通合伙) 33303 代理人: 周朝
地址: 313000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 耦合 结构 介质 滤波器
【权利要求书】:

1.一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:包括介质滤波器本体(1)、设在所述介质滤波器本体(1)上表面的调谐孔(2)、耦合槽(3)和容性耦合通孔(4),所述调谐孔(2)数量为六个且为盲孔,所述耦合槽(3)为贯穿所述介质滤波器本体(1)的矩形槽,所述容性耦合通孔(4)位于两个所述调谐孔(3)之间,所述容性耦合通孔(4)包括位于上部的圆柱形小孔(401)以及下部的锥形孔(402),所述介质滤波器本体(1)的下表面上还设有输入端口(5)和输出端口(6)。

2.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:所述介质滤波器本体(1)包括由固态介电材料制备的滤波器本体(101)、以及设置于所述滤波器本体(101)外表面上的第一金属镀层(102)。

3.根据权利要求2所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:所述第一金属镀层(102)为银、铜、金中的任意一种金属镀层。

4.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:所述圆柱形小孔(401)、锥形孔(402)的上部分覆盖有第二金属镀层(403),且所述第二金属镀层(403)与所述第一金属镀层(102)相连。

5.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:通过调节所述第二金属镀层(403)的面积可以调节耦合大小。

6.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:通过调节所述圆柱形小孔(401)半径大小以及上表面的开口状态可以调整电磁泄漏能量。

7.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:所述圆柱形小孔(401)的上表面设有吸波材料塞子(404)。

8.根据权利要求1所述的一种具有容性耦合结构的介质滤波器,其特征在于:所述圆柱形小孔(401)的上表面设有金属盖(405)。

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