[发明专利]一种LED芯片及其制造方法在审
申请号: | 202010334420.9 | 申请日: | 2020-04-24 |
公开(公告)号: | CN111490138A | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 马拥军;邱伟 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/08 | 分类号: | H01L33/08;H01L33/20;H01L33/00 |
代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;张靖琳 |
地址: | 310018 浙江省杭州市杭州经*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 及其 制造 方法 | ||
公开了一种LED芯片及其制造方法,LED芯片包括:衬底;第一LED结构和第二LED结构,第一LED结构和第二LED结构共用衬底。本发明的LED芯片包括第一LED结构和第二LED结构,第一LED结构和第二LED结构共用衬底,第一LED结构的第一外延层和第二LED结构的第二外延层可分别或同时控制发光,提高了LED芯片的发光亮度和发光均匀性。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种LED芯片及其制造方法。
背景技术
自从20世纪90年代初商业化以来,经过二十几年的发展,LED已被广泛应用于户内外显示屏、投影显示用照明光源、背光源、景观亮化照明、广告、交通指示等领域,并被誉为二十一世纪最有竞争力的新一代固体光源。然而,对于LED来说,要代替传统光源进入高端照明领域,其发光亮度和发光均匀性的提高是至关重要的。
现有的LED芯片形成步骤包括:在衬底上生长一个发光外延层,在发光外延层上做正负电极,正负极通电后发光外延层发出光子。这种单个发光外延层的LED芯片通常作为单向发光源实现全周360°发光,发光亮度相对较低。另外,现有的LED芯片具有五个发光面,在使用过程中LED芯片的固定支架限制了LED芯片的发光面,导致LED芯片在垂直方向上发光亮度较高,在侧壁水平方向上发光亮度较弱,发光不均匀,不适用于对水平方向的发光亮度有要求的背光领域。
发明内容
鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种LED芯片及其制造方法,LED芯片包括第一LED结构和第二LED结构,第一LED结构和第二LED结构共用衬底,第一LED结构的第一外延层和第二LED结构的第二外延层可分别或同时控制发光,提高了LED芯片的发光亮度和发光均匀性,扩大了LED芯片的应用范围。
根据本发明的第一方面,提供一种LED芯片,包括:
衬底;
第一LED结构和第二LED结构,所述第一LED结构和第二LED结构共用所述衬底。
进一步地,所述第一LED结构包括:
位于所述衬底的第一表面上的第一外延层,所述第一外延层包括由下向上依次设置的第一半导体层、第一发光层和第二半导体层;
第一PN台阶,位于所述第一外延层中,所述第一PN台阶的第一上台阶面为所述第二半导体层,第一下台阶面为所述第一半导体层,所述第一上台阶面和所述第一下台阶面之间连接形成第一PN台阶侧面;
第一电流扩展层,位于所述第二半导体层上,覆盖部分所述第二半导体层;
第一电极,位于所述第一半导体层上,与所述第一半导体层电连接;
第二电极,与所述第一电极彼此隔离,位于所述第一电流扩展层上,通过所述第一电流扩展层与所述第二半导体层电连接;
所述第二LED结构包括:
位于所述衬底的第二表面上的第二外延层,所述第二外延层包括由上向下依次设置的第三半导体层、第二发光层和第四半导体层;
第二PN台阶,位于所述第二外延层中,所述第二PN台阶的第二上台阶面为所述第三半导体层,第二下台阶面为所述第四半导体层,所述第二上台阶面和所述第二下台阶面之间连接形成第二PN台阶侧面;
第二电流扩展层,位于所述第四半导体层下,覆盖部分所述第四半导体层;
第三电极,位于所述第三半导体层下,与所述第三半导体层电连接;
第四电极,与所述第三电极彼此隔离,位于所述第二电流扩展层下,通过所述第二电流扩展层与所述第四半导体层电连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰明芯科技有限公司,未经杭州士兰明芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010334420.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。