[发明专利]一种硅片制绒方法

权利要求书

1.一种硅片制绒方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将待处理硅片进行前氧化处理，除去硅片表面污染物；

S2、将S1所得硅片放入纯水中清洗；

S3、将S2所得硅片放入SDE槽中SDE处理；

S4、将S3所得硅片进行表面氧化处理；

S5、将S4所得硅片放入纯水中清洗；

S6、将S5所得硅片放入TEX槽中进行制绒处理；

S7、将S6所得硅片放入纯水中清洗；

S8、将S7所得硅片进行后清洗1；

S9、将S8所得硅片放入纯水中清洗后，然后进行CP；

S10、将S9所得硅片用纯净水清洗后，进行后清洗2，后清洗2为SC2清洗液或者O₃清洗液；

S11、将S10所得硅片用纯净水清洗后，再用氢氟酸溶液清洗；

S12、将S11所得硅片用纯净水清洗后，再烘干。

2.根据权利要求1所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，S1、S4、S8中，所用处理液，为O₃溶液或者SC1溶液。

3.根据权利要求1所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，S3中，所述SDE处理中，采用碱液进行去损，碱的质量浓度1-20%，处理温度为40-90℃，处理时间为10-240s。

4.根据权利要求2所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，所述O₃溶液中，还包括HCl、HNO₃中的一种或者多种。

5.根据权利要求2所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，所述的SC1溶液，其特征在于，H₂O₂溶液和碱的混合溶液，其中碱可为NaOH、KOH、NH₄OH中的一种或者几种。

6.根据权利要求1所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，S9中，CP为O₃ CP或者HF/HNO₃CP；所述O₃ CP为O₃/HF混合溶液，或者O₃/HF混合溶液中增加HCl和HNO₃中的一种或两种；所述HF/HNO₃ CP 为HF/HNO₃混合溶液，或者HF/HNO₃溶液中增加HCl和醋酸中的一种或两种的混合液。

7.根据权利要求1所述的一种硅片制绒方法，其特征在于，S11中，所述氢氟酸溶液，为HF溶液或者HF/HCl混合溶液。