[发明专利]最小死区三维沟槽电极硅探测器在审

专利信息
申请号: 202010335009.3 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111540795A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 李正;周滔 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/108
代理公司: 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 代理人: 刘熙
地址: 411105 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 最小 死区 三维 沟槽 电极 探测器
【权利要求书】:

1.最小死区三维沟槽电极硅探测器,其特征在于,其探测单元包括长方体状的探测基体(4),所述探测基体(4)从上到下刻蚀有井字形电极(1),所述探测基体(4)从下到上刻蚀有多边形电极(3),所述井字形电极(1)底部与多边形电极(3)顶部抵靠,所述探测基体(4)横截面的中间、四条侧边的中间和四个角均设有柱状电极(2),所述柱状电极(2)贯穿探测基体(4)上下表面,所述井字形电极(1)和探测基体(4)中间的柱状电极(2)同轴,所述井字形电极(1)顶部和柱状电极(2)顶部均附着有铝电极层,所述铝电极层之间的探测基体(4)上附着有二氧化硅绝缘层,所述探测基体(4)底部、多边形电极(3)底部和柱状电极(2)底部均设有二氧化硅保护层;

所述多边形电极(3)包括四个横截面呈U形的连接部(3-2),所述四个连接部(3-2)开口朝内呈环形分布,所述四个连接部(3-2)的开口处通过直线部(3-1)连接形成多边形,所述多边形与探测基体(4)中间的柱状电极(2)同轴,所述四个连接部(3-2)的闭口处均设有两个朝向探测基体(4)侧边的延伸部(3-3),所述直线部(3-1)、延伸部(3-3)均与井字形电极(1)的延伸线重合。

2.根据权利要求1所述的最小死区三维沟槽电极硅探测器,其特征在于,所述探测基体(4)为p型轻掺杂,所述井字形电极(1)和多边形电极(3)为n型重掺杂,所述柱状电极(2)为p型重掺杂。

3.根据权利要求1所述的最小死区三维沟槽电极硅探测器,其特征在于,所述柱状电极(2)与井字形电极(1)的垂直距离为30~50μm。

4.根据权利要求1所述的最小死区三维沟槽电极硅探测器,其特征在于,所述探测单元的尺寸为长180μm×宽180μm×高300μm,所述井字形电极(1)和多边形电极(3)的宽度均为10μm,所述探测基体(4)中间的柱状电极(2)的横截面为10μm×10μm的正方形,所述探测基体(4)侧边的柱状电极(2)横截面为10μm×5μm的长方形,所述探测基体(4)四角的柱状电极(2)横截面为5μm×5μm的正方形,所述铝电极层、二氧化硅绝缘层和二氧化硅保护层的厚度均为1μm。

5.根据权利要求1所述的最小死区三维沟槽电极硅探测器,其特征在于,所述井字形电极(1)和多边形电极(3)的高度比为9:1。

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