[发明专利]用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法

权利要求书

1.用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室(1)、电化学清洗腔室(2)、等离子清洗腔室(3)、超声清洗腔室(4)，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置(5)；

所述预处理腔室(1)用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向所述预处理腔室(1)内的预清洗液发出超声波以使所述预清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器；

所述电化学清洗腔室(2)的底部设有电解装置，所述电解装置包括供电电源(211)和电解槽(212)，所述供电电源(211)至少连接有两根端部带有电极夹(214)的导线(213)，其中一根所述导线(213)的电极夹(214)连接有电极棒(215)、另一根所述导线(213)的电极夹(214)用于夹持所述真空规沉积物清除装置；

所述等离子清洗腔室(3)通过控制阀门分别连通有真空泵(31)和供气装置(32)；其上安装有对所述等离子清洗腔室(3)内的气体进行电离以产生用于清洗真空规沉积物清除装置所需的等离子体的等离子发生装置(33)；

所述超声清洗腔室(4)用于盛放清洗液，其底部安装用于向所述预处理腔室(1)内的清洗液发出超声波以使所述清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行清洗的第二超声波发生器。

2.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述第一超声波发生器包括超声发射源(11)、超声换能器(12)、超声变幅杆(13)及超声辐射器(14)，所述超声发射源(11)连接所述超声换能器(12)，所述超声变幅杆(13)连接在所述超声换能器(12)和所述超声辐射器(14)之间；所述超声辐射器(14)相对所述超声变幅杆(13)的一面直接与预清洗液接触，所述超声辐射器(14)与所述预处理腔室(1)底部盛放预清洗液部分的外形相配。

3.根据权利要求2所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述预处理腔室(1)底部呈倒圆台形，所述超声辐射器(14)呈与所述预处理腔室(1)外形相配的倒圆台形。

4.根据权利要求3所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述超声辐射器(14)与预清洗液接触的表面设有若干凸台结构(141)。

5.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述电解槽(212)通过其底部的一底座(22)安装在所述电化学清洗腔室(2)的底部，所述底座(22)上还安装有分别位于所述电解槽(212)相对两侧的第一永磁体(23)和第二永磁体(24)，所述第一永磁体(23)和第二永磁体(24)的磁性相反。

6.根据权利要求5所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述电解槽(212)置于一旋转盘(25)上，所述旋转盘(25)通过中心旋转轴转动连接于所述底座(22)。

7.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述等离子发生装置(33)包括安装在支架上的等离子发生源(331)和等离子发生器(332)，所述等离子发生器(332)通过管道与所述等离子发生源(331)连通，所述供气装置(32)的出气口与所述等离子发生器(332)的进气口连通。

8.根据权利要求7所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述等离子清洗腔室(3)的底部安装有旋转平台(34)，所述旋转平台(34)上安装供所述真空规沉积物清除装置在其上定位安装的定位夹具(35)，所述等离子发生器(332)位于所述定位夹具(35)的一侧边上用于向所述定位夹具(35)上的真空规沉积物清除装置喷射等离子体。