[发明专利]一种基片清洗支撑结构

权利要求书

1.一种基片清洗支撑结构，其特征在于，包括支架（1）和多组固定机构组，所述支架（1）的中心位置开设有用于与旋转驱动机构相连的竖向轴孔（11），所述支架（1）的顶部沿径向具有多个呈阶梯状逐级升高的台阶部（14），多个台阶部（14）由内向外逐级升高；台阶部（14）与固定机构组一一对应，固定机构组可拆卸安装于相应的台阶部（14）上，不同台阶部（14）上的固定机构组用于固定不同规格的基片，所述基片通过固定机构组支撑于相应台阶部（14）的上方；相邻台阶部（14）的高度差使得上一级台阶部（14）上的基片位于下一级台阶部（14）上的固定机构组和基片的上方。

2.根据权利要求1所述的基片清洗支撑结构，其特征在于，每组固定机构组包括四个环向间隔均布在轴孔（11）周围的固定组件（2），每个固定组件（2）用于固定相应基片的角部。

3.根据权利要求2所述的基片清洗支撑结构，其特征在于，每个固定组件（2）包括支撑件（21）和两组卡件，两组卡件之间形成相应基片角部的卡设空间，所述基片支撑于相应固定机构的支撑件（21）上。

4.根据权利要求3所述的基片清洗支撑结构，其特征在于，所述支撑件（21）为球面支承钉，所述球面支承钉与支架（1）螺纹连接。

5.根据权利要求3所述的基片清洗支撑结构，其特征在于，所述卡件为挡钉，所述挡钉与支架（1）螺纹连接。

6.根据权利要求2-5任一项所述的基片清洗支撑结构，其特征在于，所述支架（1）包括中心部（12）和四个与中心部（12）相连的安装部（13），所述轴孔（11）开设于中心部（12）上，四个安装部（13）呈环向间隔均布在轴孔（11）周围；安装部（13）从中心部（12）径向向外延伸，每组固定机构的其中一个固定组件（2）分布于相应的安装部（13）上。