[发明专利]金属离子监控系统

权利要求书

1.一种金属离子监控系统，其特征在于，所述系统应用于半导体制造领域中的清洗设备中，所述系统包括：

采样模块，用于每隔预定时间段，从所述清洗设备的清洗槽中获取清洗试剂的样品；

检测模块，用于通过差分脉冲阳极溶出伏安法检测所述样品中的金属离子浓度；

反馈模块，用于反馈所述金属离子浓度。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测模块包括测试子模块和电化学子模块和分析子模块；

所述测试子模块，用于将所述样品分成至少两份测试样品，对每份所述测试样品引入缓冲液，所述每份测试样品用于测试一种金属离子；

所述电化学子模块，用于对所述测试样品施加正向沉积电压进行沉积，施加反向扫描电压和脉冲电压进行电解，测量所述测试样品中的电流；

所述分析子模块，用于根据所述测试样品对应的金属离子的扫描电位和所述测试样品中的电流，得到所述测试样品对应的金属离子的电流-电位曲线，根据所述电流-电位曲线计算得到所述测试样品对应的金属离子浓度。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述分析子模块，还用于获取所述电流-电位曲线的峰值，根据所述峰值和稀释浓度计算所述金属离子浓度；

其中，所述稀释浓度是根据所述测试样品的体积和所述缓冲液的体积计算得到的。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述金属离子包括铜离子、锌离子、锰离子、镍离子和铁离子中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述缓冲液包括去离子水、氯化铵、DMG或5-Br-PADAP。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述测试子模块，还用于当所述测试样品对应的金属离子为铜离子时，将包含去离子水的缓冲液引入所述测试样品；或，当所述测试样品对应的金属离子为锌离子时，将包含去离子水的缓冲液引入所述测试样品；或，当所述测试样品对应的金属离子为锰离子时，将包含氯化铵的缓冲液引入所述测试样品；或，当所述测试样品对应的金属离子为镍离子时，将包含去DMG的缓冲液引入所述测试样品；或，当所述测试样品对应的金属离子为铁离子时，将包含5-Br-PADAP的缓冲液引入所述测试样品。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，包含氯化铵的缓冲液的pH值为7至10；包含5-Br-PADAP的缓冲液中，5-Br-PADAP的含量为0.5×10^-5摩尔每升至1.5×10^-5摩尔每升；包含DMG的缓冲液中，DMG的含量为0.5×10^-4摩尔每升至1.5×10^-4摩尔每升。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述测试样品和所述缓冲液的体积比为1:10至1:30。

9.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述分析子模块，还用于通过三电极体系测量所述电流，所述三电极体系包括工作电极、参比电极和辅助电极。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述工作电极为玻碳电极，所述参比电极为饱和甘汞电极，所述辅助电极为铂电极。

11.根据权利要求1至4任一所述的系统，其特征在于，对所述测试样品进行沉积的时间为1秒至20秒。

12.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，所述正向沉积电压为-1.5伏特至-1伏特。

13.根据权利要求12所述的系统，其特征在于，所述反向扫描电压为-2伏特至1伏特。

14.根据权利要求13所述的系统，其特征在于，所述脉冲电压为20毫伏特至30毫伏特。