[发明专利]一种显示面板、显示装置和显示装置的制作方法在审

专利信息
申请号: 202010342756.X 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111525044A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 王大伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 姚楠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,具有贯穿所述显示面板的通孔,以及位于所述通孔周边的显示区,所述显示面板包括依次位于衬底基板一侧的隔离结构,第一无机封装层,有机封装层,以及第二无机封装层;其中,

所述隔离结构包括包围所述通孔的第一隔离柱,以及包围所述第一隔离柱的挡墙;所述有机封装层由所述显示区向所述通孔所在位置延伸,覆盖所述挡墙,并至少覆盖所述第一隔离柱。

2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述挡墙包括包围所述第一隔离柱的第一子挡墙,以及包围所述第一子挡墙的第二子挡墙;

所述有机封装层填充覆盖所述第一子挡墙与所述第一隔离柱之间的间隙处。

3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一子挡墙的高度大于所述第二子挡墙的高度;或者,所述第一子挡墙和所述第二子挡墙的高度相同。

4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一隔离柱的高度小于所述第一子挡墙的高度。

5.如权利要求1-4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述隔离结构还包括包围所述挡墙的第二隔离柱,所述第二隔离柱的高度与所述第一隔离柱的高度相同。

6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括依次位于所述衬底基板一侧的缓冲层、第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层、层间介质层、钝化层、第一平坦层、第二平坦层、像素限定层;所述挡墙结构至少包括部分所述像素限定层。

7.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括位于所述第二无机封装层的背离所述有机封装层一侧的触控膜层。

8.一种显示面板,其特征在于,具有待打孔区,以及位于所述待打孔区周边的显示区;所述显示面板包括依次位于衬底基板之上的隔离结构,第一无机封装层,有机封装层,以及第二无机封装层;其中,

所述隔离结构包括包围所述待打孔区的第一隔离柱,以及包围所述第一隔离柱的挡墙;所述有机封装层由所述显示区向所述通孔位置延伸,覆盖所述挡墙,并至少覆盖所述第一隔离柱。

9.如权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述有机封装层还包括位于所述待打孔区的孔区有机封装部,且所述孔区有机封装部与所述第一隔离柱之间具有用于对所述待打孔区进行切割打孔的间隙区。

10.如权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述孔区有机封装部的厚度与所述第一隔离柱外侧的所述有机封装层的厚度不同。

11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-7任一项所述的显示面板。

12.一种显示装置的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底基板的一侧形成隔离结构,其中,所述隔离结构包括包围所述通孔的第一隔离柱,以及包围所述第一隔离柱的挡墙;

在所述隔离结构的背离所述衬底基板的一侧形成第一无机封装层;

在所述第一无机封装层的背离所述衬底基板的一侧形成有机封装层,并控制所述有机封装层由所述显示区向所述通孔所在位置延伸,覆盖所述挡墙,并至少覆盖所述第一隔离柱;

在所述有机封装层的背离所述第一无机封装层的一侧形成第二无机封装层;

沿所述显示面板的所述待打孔区的边缘进行切割打孔。

13.如权利要求12所述的制作方法,其特征在于,在所述第一无机封装层的背离所述衬底基板的一侧形成有机封装层时,所述制作方法还包括:

在所述待打孔区形成孔区有机封装部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010342756.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top