[发明专利]带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置

权利要求书

1.一种带电粒子束描绘方法，具备如下工序：

使用被定义了图形图案的描绘数据，将所述图形图案分割为通过带电粒子束的发射而能够照射的尺寸的多个发射图形；

将描绘对象基板的描绘区域虚拟分割成网格状而分为多个网格区域，基于所述图形图案的位置，按照每个所述网格区域，计算对邻近效应以及与邻近效应相比影响半径更小的中距离效应进行校正的校正照射量；

使用所述校正照射量，计算各发射图形的照射量；

基于所述照射量，计算所述发射图形的边缘部的不足照射量；

基于所述不足照射量，对所述发射图形进行尺寸调整；以及

使用所述照射量的带电粒子束，对所述描绘对象基板描绘进行了所述尺寸调整的发射图形。

2.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

计算通过所述照射量的带电粒子束描绘了尺寸调整前的发射图形的情况下的、所述发射图形内的剂量变化在所述边缘部的梯度，

基于所述不足照射量以及所述梯度，计算所述发射图形的尺寸调整量。

3.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

所述发射图形的照射量根据该发射图形的重心的周围的网格区域的校正照射量而计算。

4.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

根据所述发射图形的重心的周围的网格区域的校正照射量，计算第一照射量，

根据所述发射图形的所述边缘部的周围的网格区域的校正照射量，计算第二照射量，

将所述第一照射量与所述第二照射量的差分的1/2设为所述不足照射量。

5.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

根据所述发射图形的重心的周围的网格区域的校正照射量，计算第一照射量，

根据所述边缘部与从所述重心垂落到所述边缘部的垂线相交的交点的周围的网格区域的校正照射量计算第二照射量，

使用所述第一照射量以及所述第二照射量求出所述不足照射量。

6.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

根据所述发射图形的重心的周围的网格区域的校正照射量，计算第一照射量，

在所述边缘部上设定多个评价点，关于各评价点，根据周围的网格区域的校正照射量，计算第二照射量，

关于各评价点，使用所述第一照射量以及所述第二照射量，计算所述不足照射量，

根据所述不足照射量，计算各评价点处的尺寸调整量，

计算出各评价点的尺寸调整量的平均值，作为所述边缘部的尺寸调整量。

7.根据权利要求6所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

所述多个评价点包含：

所述边缘部的端点；以及

从所述重心垂落到所述边缘部的垂线与该边缘部相交的交点。

8.一种带电粒子束描绘装置，具备：

发射分割部，使用被定义了图形图案的描绘数据，将所述图形图案分割为通过带电粒子束的发射而能够照射的尺寸的多个发射图形；

校正处理部，将描绘对象基板的描绘区域虚拟分割成网格状而分为多个网格区域，基于所述图形图案的位置，按照每个所述网格区域，计算对邻近效应以及与邻近效应相比影响半径更小的中距离效应进行校正的校正照射量；

不足照射量计算部，使用所述校正照射量计算各发射图形的照射量，基于该照射量，计算所述发射图形的边缘部的不足照射量；

尺寸调整处理部，基于所述不足照射量，对所述发射图形进行尺寸调整；以及

描绘部，使用所述照射量的带电粒子束，对所述描绘对象基板描绘进行了尺寸调整的发射图形。