[发明专利]一种高阶伪随机电磁勘探信号生成方法及系统有效

专利信息
申请号: 202010344733.2 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111522064B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 何继善;杨洋;李帝铨;瓮晶波 申请(专利权)人: 山东大学;中南大学;湖南继善高科技有限公司
主分类号: G01V3/00 分类号: G01V3/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 闫伟姣
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高阶伪 随机 电磁 勘探 信号 生成 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种高阶伪随机电磁勘探信号生成方法,其特征在于,包括以下步骤:

根据勘探需求构造两个或两个以上基本单元信号,其中,所述基本单元信号是多个同相位周期方波信号叠加得到的阶梯信号,所述多个方波信号相邻之间频率之比为2;

将所述两个或两个以上基本单元信号叠加,得到叠加阶梯信号,并修正幅值使其与方波信号幅值一致,得到高阶2n序列伪随机信号;

所述方法还包括:

对于所述两个或多个基本单元信号中的至少一个进行相位调整,寻找使得叠加后高阶2n序列伪随机信号中各主频对应频谱幅值的均方差最小的相位,作为相应基本单元信号的最优相位;

根据最优相位将所述两个或两个以上基本单元信号叠加,并修正幅值使其与方波信号幅值一致,得到最终的高阶2n序列伪随机信号;

最优相位寻找方法为:

对于进行相位调整的基本单元信号,首先将半个周期的相位弧度π拆分成N份,得到相位改变基本单元π/N;

每次调整一个相位改变基本单元,记录叠加后高阶2n序列伪随机信号中各主频对应频谱值的均方差;

绘制均方差大小随相位的变化曲线,寻找使得均方差最小的相位作为该基本单元信号的最佳相位;

根据所述方法构造得到的适用于浅层勘探的信号如下:

二阶2n序列伪随机信号,其中,两个基本单元信号的主频和相位分别为:0.25Hz和10度,0.75Hz和120度;以及,三阶2n序列伪随机信号,其中,三个基本单元信号的主频和相位分别为:0.25Hz和0度,0.75Hz和90度,1.25Hz和90度。

2.如权利要求1所述的一种高阶伪随机电磁勘探信号生成方法,其特征在于,所述两个或两个以上基本单元信号满足以下要求:

第一个基本单元信号中主频的最低频率记为基频,第n个基本单元的最低频率为基频的2n+1倍,n为大于1的自然数;

所有基本单元信号的主频数目之和为奇数。

3.如权利要求1所述的一种高阶伪随机电磁勘探信号生成方法,其特征在于,周期方波的生成方法为:

首先生成与目标周期方波频率一致的正弦信号,将这些正弦信号中,大于0的值置为A,小于0的值置为-A,得到一系列相位相同的周期方波信号,其中,A≠0;

对于周期方波中值为0的信号,按位置赋值A或-A,得到不含0值的周期方波。

4.一种高阶伪随机电磁勘探信号生成系统,其特征在于,包括:

基本单元信号构造模块,根据勘探需求构造两个或两个以上基本单元信号,其中,所述基本单元信号是多个同相位周期方波信号叠加得到的阶梯信号,所述多个方波信号相邻之间频率之比为2;

高阶伪随机信号生成模块,将所述两个或两个以上基本单元信号叠加,得到叠加阶梯信号,并修正幅值使其与方波信号幅值一致,得到高阶2n序列伪随机信号;

对于所述两个或多个基本单元信号中的至少一个进行相位调整,寻找使得叠加后高阶2n序列伪随机信号中各主频对应频谱幅值的均方差最小的相位,作为相应基本单元信号的最优相位;

根据最优相位将所述两个或两个以上基本单元信号叠加,并修正幅值使其与方波信号幅值一致,得到最终的高阶2n序列伪随机信号;

最优相位寻找方法为:

对于进行相位调整的基本单元信号,首先将半个周期的相位弧度π拆分成N份,得到相位改变基本单元π/N;

每次调整一个相位改变基本单元,记录叠加后高阶2n序列伪随机信号中各主频对应频谱值的均方差;

绘制均方差大小随相位的变化曲线,寻找使得均方差最小的相位作为该基本单元信号的最佳相位;

根据所述方法构造得到的适用于浅层勘探的信号如下:

二阶2n序列伪随机信号,其中,两个基本单元信号的主频和相位分别为:0.25Hz和10度,0.75Hz和120度;以及,三阶2n序列伪随机信号,其中,三个基本单元信号的主频和相位分别为:0.25Hz和0度,0.75Hz和90度,1.25Hz和90度。

5.一种终端设备,包括处理器和计算机可读存储介质,处理器用于实现各指令;计算机可读存储介质用于存储多条指令,其特征在于,所述指令适于由处理器加载并执行权利要求1-3中任一项所述的高阶伪随机电磁勘探信号生成方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学;中南大学;湖南继善高科技有限公司,未经山东大学;中南大学;湖南继善高科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010344733.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top