[发明专利]一种用于土壤原位氧化修复的注射井系统

权利要求书

1.一种用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，包括中空结构且底部封口的第一注入井和第二注入井，所述第一注入井竖直设置在构筑物以外的土壤内，所述第二注入井倾斜设置在构筑物下方的土壤内；所述第一注入井和所述第二注入井的至少部分区段为筛管段，所述筛管段内设置有能使氧化药剂从内部流出的多个过药口。

2.根据权利要求1所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述注射井修复系统还包括中空结构且底部封口的第三注入井，所述第三注入井水平设置在构筑物下方的土壤内；所述第三注入井的至少部分区段为筛管段，所述筛管段内设置有能使氧化药剂从内部流出的多个过药口。

3.根据权利要求2所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述注射井系统还包括加压装置，所述加压装置与所述第一注入井、所述第二注入井和/或所述第三注入井连通以对进入的药液加压。

4.根据权利要求1或2或3所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所有的所述过药口沿所述筛管段长度方向分层设置，每层所述过药口以所述筛管段轴线为圆心呈圆形设置。

5.根据权利要求4所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，相邻两层所述过药口之间的距离相同或不同；同层的所有所述过药口中朝向污染源方向的所述过药口之间的距离小于远离污染源方向的所述过药口之间的距离。

6.根据权利要求2所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述第一注入井、所述第二注入井和/或所述第三注入井的数量为至少一根，分为多组，不同组的所述第一注入井、不同组的所述第二注入井和/或不同组的所述第三注入井上所述筛管段设置位置不同，同组中的每根所述第一注入井、同组中的每根所述第二注入井和/或同组中的每根所述第三注入井上设置的所述筛管段位置相同。

7.根据权利要求6所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述第二注入井沿构筑物宽度方向分成多排设置；

每排所述第二注入井的数量为一根，该所述第二注入井从构筑物一侧倾斜插入，末端延伸到构筑物另一侧的污染源下方，相邻两排的所述第二注入井倾斜方向相反呈十字交叉设置；

或者是，

每排所述第二注入井的数量为两根，两根所述第二注入井分别从构筑物两侧倾斜插入，二者末端均延伸到位于构筑物中心位置的污染源下方。

8.根据权利要求7所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述第三注入井布置在相邻两排所述第二注入井之间，所述第三注入井从构筑物一侧水平插入，末端延伸到构筑物另一侧。

9.根据权利要求8所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述第二注入井和所述第三注入井之间的距离不大于药液扩散距离。

10.根据权利要求2所述的用于土壤原位氧化修复的注射井系统，其特征在于，所述第一注入井、所述第二注入井和所述第三注入井的直径相同或不同。