[发明专利]一种透明导电膜与触控屏

说明书

本申请实施例公开了一种透明导电膜和触控屏，其中透明导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；所述导电层依次包括设于所述IM层上的金属掺杂层和透明导电材料层；所述金属掺杂层包括金属与氮化物金属和/或金属与氧化物金属。本申请将原来的金属变更为金属掺杂层，提高了导电性。而双IM层的设置降低了IM层整体的反射率，使之可以与低反射率的导电层匹配，降低了导电膜的色差。

技术领域

本申请涉及光学膜领域，特别是涉及一种透明导电膜及触控屏。

背景技术

透明导电膜是很多产品如触控屏的核心元件，提高透明导电膜的导电性，降低其厚度是行业内一直追求的目标。如图1所示，为目前新研发的透明导电膜结构，包括基材层和依次设于基材层上的I M层、导电层，导电层由透明导电材料层、金属层依次叠加组成。借助隧道击穿的原理，该导电层结构相比过往技术提高了导电膜的导电性。

在上述结构中，金属层具有一个特质：厚度较薄时，其形成为岛状膜层结构，因非连续性，导致导电性较差。为保证导电性，就必须保证厚度，一般单层的金属层厚度均需要大于10nm。造成了透明导电膜的低厚度与高导电性之间的矛盾。

另外，上述结构中的透明导电材料层、金属层之间因透明导电材料层的高折射率和金属层的低折射率而形成了AR减反效果，降低了导电层的反射率，实现了导电层的电阻越低，反射率越低的效果。即目前的透明导电膜，其导电层的反射率可以很小。我们知道，为了保证导电膜的色差足够小，IM层(INDEX MARGIN，消影层)与导电层的反射率差值越小越好，但目前的IM层的反射率无法做到更低，因此无法与导电层的反射率匹配，从而色差较大。

因此，如何在低厚度的情况下，提高导电性，降低目前导电膜的色差，是目前急需解决的问题。

发明内容

本申请提供了一种透明导电膜及触控屏，以解决现有技术中出现的上述问题。

本申请提供了如下方案：

一方面提供了一种透明导电膜，所述透明导电膜包括依次层叠设置的基材、至少两层IM层和导电层；

所述两层IM层依次包括设于所述基材上的有机材料层和无机材料层；

所述导电层依次包括设于所述IM层上的金属掺杂层和透明导电材料层；

所述金属掺杂层为金属与氮化物金属和/或金属与氧化物金属的掺杂层。

优选的，所述第一金属掺杂层和所述第一金属掺杂层中的氧或氮的原子百分比为1.5at％-5.5at％。

优选的，所述金属掺杂层为连续膜层，且所述金属掺杂层厚度小于10nm。

优选的，所述金属掺杂层为金属靶材镀膜过程中通入少量O2和/或N2形成。

优选的，所述有机材料层通过涂布的方式设置，所述无机材料层通过溅射的方式设置。

优选的，所述导电层的阻值小于100欧姆；所述有机材料层的折射率为1.6-1.7；所述无机材料层的折射率为1.4-1.6。

优选的，所述导电层的等效折射率为1.4-1.5。

优选的，

所述金属掺杂层与透明导电材料层之间设有第一耐候层和/或第一抗氧层；

和/或所述金属掺杂层与所述无机材料层之间设有第二耐候层和/或第二抗氧层。

优选的，

所述有透明导电膜包括依次层叠设置的硬涂层、减反层、所述基材层、所述有机材料层、所述无机材料层、第二耐候层、第二抗氧层、所述金属掺杂层、第一抗氧层、第一耐候层和所述透明导电材料层。