[发明专利]一种触控屏及其制备方法

说明书

本发明公开了一种触控屏制备方法，包含的步骤为：提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材，切割所述卷材，所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□；对所述卷材进行激光图案化，所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化；提供两片所述图案化后卷材，对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构；提供一透明盖板，通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。该方法有效节减少了触控屏生产制程，降低了生产成本，提高生产效率。

技术领域

本发明涉及触控屏，尤其涉及一种电容式触控屏的制备方法。

背景技术

电容式触控装置结构一般分为感应层和驱动层，分别在两张透明导电薄膜上完成图案化电路，并有导线传输信号，其表面根据需要贴合有盖板。透明导电薄膜上图案化电路形成的方法有化学蚀刻或者物理的激光蚀刻等。现有技术中电容式触控装置的制备过程包括：1.图案化导电薄膜。如果采用ITO为透明导电薄膜的导电物质，通常采用传统的溶液化学蚀刻，采用耐酸油墨、光刻胶等作为溶液中化学蚀刻的临时保护，在蚀刻完成后需要进行脱除。如果采用纳米银为透明导电薄膜的导电物质，采用激光镭射出图案，清洗导电薄膜。2.对两层导电薄膜进行切割后老化，印刷导电银浆，对导电银浆进行烘烤固化。3.激光对导电银浆镭射出导电图案后进行清洗。4.两层导电薄膜进行贴合后再与透明盖板贴合。这一系列过程工序众多，制程繁琐，需要花费大量的人力物力和生产时间。

综上所述，如何节约制作工序，降低触控屏的生产成本是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

为解决上述蚀刻线可见的问题，本发明提出了1.一种触控屏制备方法，包括以下步骤：

S1：提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材，切割所述卷材，所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□；

S2：对所述卷材进行激光图案化，所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化。

S3：提供两片所述图案化后卷材，对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构；

S4：提供一透明盖板，通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。

优选的，所述步骤S1的卷材包含一层离型膜，所述切割为部分半切断处理。

优选的，所述低阻导电薄膜层包含电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的氧化物或氮化物。

优选的，所述步骤S4的透明盖板采取多片式载于同一离型膜上。

优选的，所述步骤S3采用滚卷式进行贴合。

优选的，所述切割为部分半切断处理。

优选的，所述步骤S2的激光能量为30-50W。

优选的，所述触控区域图案化和边框导线图案化一道制程完成。

本发明的触控屏制备方法节约制作工序，有效节省人力物力和生成时间，降低触控屏的生产成本。

本发明还提供了一种由以上所述触控屏制备方法得到的触控屏。

附图说明

图1为本发明触控屏制备方法的流程图

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

除非特别说明，本发明采用的溶剂、试剂、涂覆方法、技术参数、涂覆设备等均为本技术领域常规溶剂、试剂、方法、参数、设备等。

如图1所示，本实施例提供了一种触控屏制备方法，该制备方法的步骤为：

S1：提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材，切割所述卷材，所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□。