[发明专利]一种含金属干粒的抛釉砖

说明书

本发明实施方式公开了一种含金属干粒的抛釉砖，本发明制得的抛釉砖表面光滑亮洁，并且还有高折射率的金属光泽。由以下步骤制备而成：(1)制备金属干粒：取镍铬合金在1000℃‑1300℃下熔融，制成60‑100目的金属干粒；(2)取悬浮液和所述金属干粒制备金属釉料，釉料配比为悬浮液：金属干粒＝100:8～15；(3)制备砖胚，施普通釉，采用喷釉工艺在砖胚上施步骤(2)制得的金属釉料；(4)送至1100‑1200℃之间烧制，得到砖体；(5)对砖体进行抛光，除去表面氧化层，得到所述含金属干粒的抛釉砖。

技术领域

本发明涉及瓷砖领域，尤其涉及一种含金属干粒的抛釉砖。

背景技术

抛釉砖，即全抛釉砖，是一种可以在釉面进行抛光工序的瓷砖，一般为透明面釉或透明凸状花釉，施于抛釉的抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽，坚硬耐磨，在现代建筑中广泛使用，多见于室内外装饰。

在现有技术中，全抛釉生产工艺一般有两种：先印花后堆釉工艺、或釉下花纹和表面熔块均为印刷的工艺。前者需有厚度大的砖体位于表面的透明釉，立体感强，但釉面太厚在烧制时容易产生大量气泡，使产品抛面后防污能力差，容易失光；后者工艺逼真度高、成本低，但抛釉容易露底。

因此如何改善抛釉砖质量是本领域技术人员应该研究的方向之一。

发明内容

本发明实施方式提供了一种含金属干粒的抛釉砖，本发明制得的抛釉砖表面光滑亮洁，并且还有高折射率的金属光泽。

为解决上述问题，本发明提供的一种含金属干粒的抛釉砖，由以下步骤制备而成：

(1)制备金属干粒：取镍铬合金在1000℃-1300℃下熔融，制成60-100目的金属干粒；

(2)取悬浮液和所述金属干粒制备金属釉料，釉料配比为悬浮液：金属干粒＝100:8～15；

(3)制备砖胚，施普通釉，采用喷釉工艺在砖胚上施步骤(2)制得的金属釉料；

(4)送至1100-1200℃之间烧制，得到砖体；

(5)对砖体进行抛光，除去表面氧化层，得到所述含金属干粒的抛釉砖。

优选地，所述镍铬合金的粒子目数为5-20目。

优选地，所述步骤(3)的金属釉料的施釉比重为1.35。

优选地，所述步骤(3)的金属釉料的施釉重量为30克/平方。

优选地，所述步骤(1)的熔融温度为1200-1300℃。

优选地，所述步骤(2)的悬浮液：金属干粒＝100:12。

优选地，所述步骤(4)的烧制温度为1150-1180℃。

从以上技术方案可以看出，本发明实施方式具有以下优点：本发明采用釉上工艺。具体来讲，砖胚上先进行现有技术的常规施釉方式施普通釉，再施本发明的金属釉料。由于本发明的金属釉料由镍铬合金熔融组成的60-100目的金属干粒，配合悬浮液，在烧制过程中采用1100-1200℃的温度，普通釉的釉面熔融，张力和黏度急剧下降，金属干粒比重大，重力作用，溶于釉层，却不陷于釉层内部。因此经过抛光后，本发明制得的抛釉砖表面有高折射率的金属光泽。

具体实施方式

本发明实施方式提供了一种含金属干粒的抛釉砖，本发明制得的抛釉砖表面光滑亮洁，并且还有高折射率的金属光泽。

本发明公开了含金属干粒的抛釉砖由以下步骤制备而成：

(1)制备金属干粒：取镍铬合金在1000℃-1300℃下熔融，制成60-100目的金属干粒；