[发明专利]一种整体式大面积副反射面的制造方法

权利要求书

1.一种整体式大面积副反射面的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.绘制副反射面正面的理想曲面构型，并按照理想曲面构型铸造副反射面坯料，副反射面坯料的正面为对应于副反射面正面的弧面，副反射面坯料的背面为凹腔，副反射面坯料的厚度为理想曲面构型的二倍至五倍；

S2.以副反射面坯料的弧面作为精度表面（1），以副反射面坯料的凹腔作为次等表面，对次等表面进行加工，从而形成背腔（2）以及背腔中心的连接筒（3）；

S3.向连接筒以外的背腔空间中加入发泡剂（6），然后将副反射面坯料以背腔向上的姿态放入保温炉（5）中，设置炉温50～70℃，保温3～5小时后取出；

S4.将高出背腔口面的发泡剂切除，然后在连接筒以外的背腔口面上安装密封盖板（7），并在连接筒的端面上设置用于将副反射面固定在天线上的连接件；

S5.对精度表面进行加工，使精度表面的曲率与理想曲面构型曲率相等；

在步骤S2和步骤S3之间还包括以下步骤：

以副反射面坯料的中心为圆心，预设多个同心的环线，相邻环线之间的间距均相等，以副反射面坯料的中心为起点预设多条辐向线，相邻辐向线之间的夹角均相等，以辐向线与环线的交叉点作为测量点位，在每个测量点位处开设测厚孔。

2.根据权利要求书1所述的一种整体式大面积副反射面的制造方法，其特征在于，步骤S5的具体过程为，对副反射面坯料的精度表面进行多次加工，每次加工完毕后对每个测厚孔的孔深进行测量，直至精度表面的构型符合理想曲面构型。

3.根据权利要求书1所述的一种整体式大面积副反射面的制造方法，其特征在于，步骤S2中，还需要对副反射面坯料进行去应力处理，去应力方式为采用热处理或高频振动。