[发明专利]基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202010354200.2 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111427189A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 陈俊;袁涛;巴静 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 制备 方法 | ||
1.一种基板，其特征在于，包括衬底基板，所述衬底基板上设置有至少一微盲孔。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述微盲孔形状为凹球形。
3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述微盲孔的直径范围为0.1um至10um。
4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述至少一微盲孔阵列设置于所述衬底基板上。
5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述衬底基板为玻璃衬底基板或有机衬底基板，所述有机衬底基板表面沉积有SiNx、SiOx和SiNxOy中的任一种。
6.一种基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
准备衬底基板；
在所述衬底基板上制备至少一微盲孔，得到基板，其中，所述基板为如权利要求1至5任一项所述的基板。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上制备至少一微盲孔，包括：
在所述衬底基板上制备第一光阻层，其中，所述第一光阻层上形成有多个阵列排布的通孔；
对所述衬底基板和所述第一光阻层进行刻蚀。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上制备第一光阻层，包括：
在所述衬底基板上涂布第二光阻层；
对所述第二光阻层进行曝光显影，得到所述第一光阻层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述对所述第二光阻层进行曝光显影，包括：
准备预设图案的光罩；
采用所述光罩，对所述第二光阻层进行曝光显影。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述准备预设图案的光罩，包括：
准备具有阵列排布通孔的光罩。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司，未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010354200.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种养生无花果叶茶的加工工艺
- 下一篇：一种胶塞自动装配检测设备
