[发明专利]用于控制功率半导体开关的电路装置和方法有效
申请号: | 202010354267.6 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111880068B | 公开(公告)日: | 2023-10-17 |
发明(设计)人: | A.梅尔柯尼扬 | 申请(专利权)人: | 西门子股份公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 控制 功率 半导体 开关 电路 装置 方法 | ||
1.一种用于控制功率半导体开关(10)的电路装置(20),所述开关(10)包括栅极端子(G)、源极端子(S)和漏极端子(D)以及在源极和漏极端子(S、D)之间形成的导电沟道,所述电路装置(20)包括:
-用于产生控制信号的部件,所述控制信号使所述半导体开关(10)在接通状态和断开状态之间交替;
-电流源(25),用于向所述栅极端子(G)中注入电流;
-评估单元,其被布置为用于:
--在所述半导体开关(10)处于接通状态时,测量所述栅极端子(G)与所述源极端子和所述漏极端子(S、D)中的一个之间的电压,
--根据所测量的电压和来自所述电流源(25)的电流,确定所述半导体开关(10)的绝对温度。
2.根据权利要求1所述的电路装置(20),其中,所述功率半导体开关(10)是宽带隙开关(10),特别地是基于SiC或基于GaN的功率半导体开关(10)。
3.根据权利要求1或2所述的电路装置(20),其中,所述功率半导体开关(10)是JFET设备或HEMT设备(10)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的电路装置(20),其中,所述电流源(25)被配置为用于提供恒定电流。
5.根据前述权利要求中任一项所述的电路装置(20),其中,所述用于产生控制信号的部件包括微处理器(28),所述微处理器被布置为用于产生用于控制所述半导体开关(10)的脉冲宽度调制信号。
6.根据前述权利要求中任一项所述的电路装置(20),所述电路装置包括用于检测所述半导体开关(10)是否处于接通状态的单元。
7.根据前述权利要求中任一项所述的电路装置(20),其中,所述评估单元还被布置为用于,根据温度确定在所述功率半导体开关(10)中流动的源极-漏极电流。
8.根据前述权利要求中任一项所述的电路装置(20),其中,所述评估单元还被布置为用于,根据温度确定在所述功率半导体开关(10)中流动的过电流的存在。
9.根据权利要求7或8所述的电路装置(20),其中,所述评估单元被布置为用于,确定所述功率半导体开关(10)的环境温度,并且在确定所述源极-漏极电流时,使用所述环境温度。
10.一种用于控制功率半导体开关(10)的方法,所述开关包括栅极端子(G)、源极端子(S)和漏极端子(D)以及在源极和漏极端子(S、D)之间形成的导电沟道,所述方法包括以下步骤:
-产生控制信号,所述控制信号使所述功率半导体开关(10)在接通状态和断开状态之间交替;
-利用电流源(25)产生到所述栅极端子(G)中的电流;
-在所述半导体开关(10)处于接通状态时,测量所述栅极端子(G)与所述源极端子和所述漏极端子(S、D)中的一个之间的电压,
-根据所测量的电压和来自所述电流源(25)的电流,确定所述半导体开关(10)的绝对温度。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,利用所述电流源(25)产生恒定电流。
12.根据权利要求10或11所述的方法,其中,根据测量的电压,来确定所述功率半导体开关(10)的源极-漏极电流。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子股份公司,未经西门子股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010354267.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。