[发明专利]表面具有光栅化加密图案的薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种表面具有光栅化加密图案的薄膜，其特征在于：所述薄膜表面具有n个分区和m个位于所述分区内的光栅化加密图案，每个分区内至多有一个光栅化加密图案，其中2≤m≤180，m≤n；

每个所述光栅化加密图案均由周期性排列的线宽为1～10μm、周期为2～20μm的光栅线条构成的光栅线条组组成；

所述每个分区都是最小边长大于等于5μm的矩形，所述光栅化加密图案的设计版图是以所述矩形分割为最小单元像素点。

2.根据权利要求1所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜，其特征在于：不同的光栅化加密图案的光栅线条在平面内无交叉重叠，不同的光栅化加密图案的光栅线条的延长线的夹角为大于等于1°且小于180°的正整数角度。

3.根据权利要求1或2所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜，其特征在于：所述薄膜为任意聚合物薄膜或金属薄膜。

4.根据权利要求1或2所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜，其特征在于：所述光栅线条组由一条凸光栅线条和一条凹光栅线条组成，凸光栅线条和凹光栅线条的线宽均为1～10μm，相邻凸光栅线条和凹光栅线条形成深度差小于等于100nm的二维凹凸结构的光栅线条组。

5.一种如权利要求1-4任意一项所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜的制备方法，其特征在于，按照以下步骤顺序进行：

一、在容器中加入光敏性联苯二胺单体、4,4’-二氨基二苯醚和无水N,N-二乙基乙酰胺，然后于5～10℃下机械搅拌直至所有固体被溶解，得物料A；

二、将物料A在惰性气体保护下加入均苯四甲酸酐，于0～10℃环境中搅拌反应8～24h，得到光敏性聚酰胺酸溶液；

三、将光敏性聚酰胺酸溶液旋涂在基底上，并置于真空中经热酰亚胺化后得到厚度为3～300μm的光敏性聚酰亚胺薄膜；

四、将设计版图曝光在光敏性聚酰亚胺薄膜表面，然后将曝光后的光敏性聚酰亚胺薄膜浸入含有硫酸铜的甲醇溶液中进行显影操作，最终吸附沉积在曝光区域的金属铜离子与未曝光区域形成所述光栅化加密图案，即得到所述表面具有光栅化加密图案的薄膜；

所述设计版图设有与所述光栅化加密图案相对应的光栅结构。

6.根据权利要求5所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜的制备方法，其特征在于，所述光栅线条组由一条凸光栅线条和一条凹光栅线条组成，凸光栅线条和凹光栅线条的线宽均为1～10μm，相邻凸光栅线条和凹光栅线条形成深度差小于等于100nm的二维凹凸结构的光栅线条组；所述步骤四按照以下步骤顺序进行：

（一）将光敏性聚酰亚胺薄膜置于无掩膜紫外曝光机中；

（二）采用直写式曝光模式多重数字叠加的设计版图曝光在光敏性聚酰亚胺薄膜表面，曝光波长选用365nm，单个像素点曝光时长为30～300ms；

（三）将曝光后的光敏性聚酰亚胺薄膜浸入含有硫酸铜的甲醇溶液中进行显影操作，吸附沉积在曝光区域的金属铜离子与未曝光区域形成由深度差小于等于100nm的二维凹凸结构的光栅线条组构成的所述光栅化加密图案，即得到所述表面具有光栅化加密图案的薄膜。

7.根据权利要求5或6所述的表面具有光栅化加密图案的薄膜的制备方法，其特征在于，所述含有硫酸铜的甲醇溶液中硫酸铜的浓度为5～10g/L。