[发明专利]阵列基板及显示面板有效

专利信息
申请号: 202010354948.2 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111524979B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 陈韦洁;林弘哲;曾文贤;李冠谊 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L27/12;G02F1/1368;G02F1/1362
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 傅磊;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 阵列 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包含:

一基板;

一像素阵列,位于该基板上,其中该像素阵列包含多个像素结构,每一像素结构包含一薄膜晶体管;

一绝缘层,位于该薄膜晶体管上;以及

一覆盖层,位于该绝缘层上且接触该绝缘层,其中该覆盖层的折射率与该绝缘层的折射率之间的差值为0至0.1之间,且该覆盖层的光吸收系数为0至0.5之间,

还包含:

一绿色滤光图案;

一蓝色滤光图案;以及

一红色滤光图案,其中该覆盖层位于该薄膜晶体管上,该覆盖层的材料为红色色阻,该绿色滤光图案及该蓝色滤光图案的至少其中的一者与该覆盖层相邻设置,该绝缘层的折射率为1.75,且该覆盖层的折射率为1.65至1.85之间,

或还包含:

一彩色滤光元件,配置于该覆盖层上且接触该覆盖层,该覆盖层包含半透明的黑色光间隙材料,该绝缘层的折射率为1.75,且该覆盖层的折射率为1.65至1.85之间。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其中该薄膜晶体管包含一栅极,该覆盖层在该基板的正投影重叠该栅极在该基板的正投影。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其中该覆盖层为透明或半透明。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其中该覆盖层的材料为透明光间隙材或是超高开口率绝缘材料,其组成成分包括树脂、光起始剂、溶剂、促进剂、固化促进剂及/或表面活性剂。

5.一种显示面板,包含:

一阵列基板,包含:

一基板;以及

一像素阵列,位于该基板上,其中该像素阵列包含多个像素结构,每一像素结构包含一薄膜晶体管;

一绝缘层,位于该薄膜晶体管上;以及

一覆盖层,位于该绝缘层上且接触该绝缘层,其中该覆盖层的折射率与该绝缘层的折射率的差值为0至0.1之间,且该覆盖层的光吸收系数为0至0.5之间;

一对向基板,与该阵列基板对向设置;以及

一显示介质层,位于该对向基板与该阵列基板之间,

还包含:

一绿色滤光图案;

一蓝色滤光图案;以及

一红色滤光图案,其中该覆盖层位于该薄膜晶体管上,该覆盖层的材料为红色色阻,该绿色滤光图案及该蓝色滤光图案的至少其中的一者与该覆盖层相邻设置,该绝缘层的折射率为1.75,且该覆盖层的折射率为1.65至1.85之间,

或还包含:

一彩色滤光元件,配置于该覆盖层上且接触该覆盖层,该覆盖层包含半透明的黑色光间隙材料,该绝缘层的折射率为1.75,且该覆盖层的折射率为1.65至1.85之间。

6.如权利要求5所述的显示面板,其中该薄膜晶体管包含一栅极,该栅极在该基板的正投影重叠该覆盖层在该基板的正投影。

7.如权利要求5所述的显示面板,还包含:

一共用电极,配置于该对向基板,其中该覆盖层自该绝缘层朝该对向基板延伸并接触该共用电极。

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