[发明专利]触控面板及其制备方法、电子设备

说明书

本发明涉及一种触控面板及其制备方法、电子设备。触控面板包括：基材；透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。上述触控面板，基材上贴附有光学调整层和应力调整层，光学调整层即为消影膜(index matching，也称作IM膜)，应力调整层能够限定光学调整层在压膜制程以及透明导电层蚀刻过程中的形变量，避免光学调整层的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，特别是涉及一种触控面板及其制备方法、电子设备。

背景技术

触控面板制备过程中，首先在基材表面形成ITO(Indium Tin Oxides，氧化铟锡)膜，而后对ITO膜进行蚀刻以形成触控电极图案。其中，基材设有ITO膜的一侧通常设置有消影膜(index matching，简称IM膜)。IM膜在压膜制程中受热延展，随后对ITO膜进行蚀刻时，部分覆盖于IM膜上的ITO被去除，IM膜上的应力发生变化而引起IM膜回缩，使得IM膜表面不平整，导致触控电极图案可见。

发明内容

基于此，有必要针对IM膜在压膜制程以及蚀刻过程中发生形变的问题，提供一种触控面板及其制备方法、电子设备。

一种触控面板，包括：

基材；

透明导电层，设于所述基材上，所述透明导电层包括多个触控电极图案；

第一光学调整层，设于所述基材和所述透明导电层之间；以及

应力调整层，设于所述第一光学调整层和所述透明导电层之间或者所述第一光学调整层和所述基材之间。

上述触控面板，基材上贴附有光学调整层和应力调整层，光学调整层即为消影膜(index matching，也称作IM膜)，应力调整层能够限定光学调整层在压膜制程以及透明导电层蚀刻过程中的形变量，避免光学调整层的表面形成凹凸不平的结构而影响消影效果。

在其中一个实施例中，所述应力调整层包括层叠设置的第二光学调整层和光阻层。

在其中一个实施例中，所述光阻层的材质为透明感光膜或负型绝缘光阻，和/或，所述第二光学调整层的厚度小于1μm。

在其中一个实施例中，所述应力调整层的厚度为1μm～10μm。

一种所述触控面板的制备方法，包括以下步骤：

提供基材和复合膜材，将所述复合膜材贴合于所述基材上，所述复合膜材包括层叠设置的第一光学调整层和应力调整层；

在所述复合膜材背向所述基材的表面形成透明导电层；

对所述透明导电层进行蚀刻形成触控电极图案。

在其中一个实施例中，所述将复合膜材贴合于所述基材上的步骤包括：所述复合膜材设有所述应力调整层的一侧与所述基材相贴合；或者，

所述复合膜材设有所述第一光学调整层的一侧与所述基材相贴合。

在其中一个实施例中，所述应力调整层包括层叠设置的第二光学调整层和光阻层。

在其中一个实施例中，所述将复合膜材贴合于所述基材上的步骤包括：采用压膜方式对所述复合膜材与所述基材进行贴合。

在其中一个实施例中，压膜的温度为80℃～120℃，压膜的速度为0.5m/s～5.0m/s，压膜的压力为0.1MPa～0.5MPa。

一种电子设备，包括所述的触控面板。

附图说明