[发明专利]一种微带环行器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010356121.5 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111653854A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 杨建新;余杰;田紫叶 申请(专利权)人: 北京无线电测量研究所
主分类号: H01P1/387 分类号: H01P1/387;H01P11/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 付生辉
地址: 100851*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 微带 环行器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微带环行器,其特征在于,包括:具有预埋铁氧体(4)的复合基板;

所述复合基板上与所述铁氧体(4)对应的位置依次设置有介质片(1)和永磁体(2);

所述复合基板的外表面,位于所述铁氧体(4)周边设有工作电路(3)。

2.根据权利要求1所述的微带环行器,其特征在于,所述复合基板包括:介质基板(5)和铁氧体(4);所述介质基板(5)上开设有与铁氧体(4)的形状相匹配的通孔:

所述铁氧体(4)匹配预埋在所述介质基板(5)的通孔内。

3.根据权利要求1或2所述的微带环行器,其特征在于,所述复合基板的外表面覆设有铜箔(6);

所述工作电路(3)制作在覆设有铜箔(6)的复合基板外表面。

4.根据权利要求2所述的微带环行器,其特征在于,所述基板采用聚四氟乙烯材料混合陶瓷粉制成。

5.根据权利要求2或4所述的微带环行器,其特征在于,所述基板的介电常数ε的值大于30。

6.一种微带环行器制备方法,其特征在于,该方法的步骤包括:

将铜箔(6)覆在具有铁氧体(4)的复合基板的外表面,形成预埋铁氧体覆铜复合基板;

在预埋铁氧体覆铜复合基板的表面,位于铁氧体(4)周边,加工环行器工作电路(3);

在所述复合基板的与铁氧体(4)对应的位置上,依次固定介质片(1)和永磁体(2),形成微带环行器。

7.根据权利要求6所述微带环行器制备方法,其特征在于,所述将铜箔(6)覆在具有铁氧体(4)的复合基板的外表面,形成预埋铁氧体覆铜复合基板的前一步包括:

在预设介质基板(5)上开设有多个通孔,将多个铁氧体(4)分别镶嵌于所述通孔内,形成复合基板。

8.根据权利要求6或7所述微带环行器制备方法,其特征在于,所述在覆铜复合基板的表面加工环行器工作电路(3)步骤的后一步包括:

以每个铁氧体4及其周边的工作电路(3)为结构单体,将加工有环行器工作电路(3)的覆铜复合基板,切割成与铁氧体(4)数量相等的结构单体;

在每个结构单体上的所述复合基板的与铁氧体(4)对应的位置上,依次固定介质片(1)和永磁体(2),形成微带环行器。

9.根据权利要求7所述微带环行器制备方法,其特征在于,所述铁氧体(4)在预定温度和振动条件下,嵌内所述预设基板的通孔内,形成稳固的复合基板。

10.根据权利要求7所述微带环行器制备方法,其特征在于,所述预设基板的介电常数ε的值大于30。

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