[发明专利]显示面板、显示面板的制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板；

像素限定层，位于所述阵列基板一侧，所述像素限定层设有开口，每个所述开口内设置有一个子像素，所述子像素包括红光子像素、绿光子像素和蓝光子像素，所述开口的至少部分侧壁上设有金属层，所述金属层表面包括纳米晶颗粒，其中，所述红光子像素和所述绿光子像素所在的所述开口的侧壁上包括的纳米晶颗粒的尺寸小于所述蓝光子像素所在的所述开口的侧壁上包括的纳米晶颗粒的尺寸。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶颗粒的颗粒尺寸由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米晶颗粒包括晶态金属合金的纳米晶颗粒、非晶态金属合金的纳米晶颗粒中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述金属层表面上，由所述阵列基板指向所述像素限定层的方向上依次排布所述非晶态金属合金的纳米晶颗粒、所述晶态金属合金的纳米晶颗粒。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示面板，其特征在于，所述金属层覆盖全部所述侧壁。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板；

在所述阵列基板的一侧形成像素限定层，所述像素限定层设有开口；

在每个所述开口内设置一个子像素，其中，所述子像素包括红光子像素、绿光子像素和蓝光子像素，所述像素限定层的所述开口的至少部分侧壁上沉积金属层；

利用电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒，其中，所述红光子像素和所述绿光子像素所在的所述开口的侧壁上包括的纳米晶颗粒的尺寸小于所述蓝光子像素所在的所述开口的侧壁上包括的纳米晶颗粒的尺寸。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述利用电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒的步骤包括：利用超低浓度酸电化学腐蚀使所述金属层表面形成纳米晶颗粒。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的显示面板。