[发明专利]分焦平面偏振探测器的制作方法及正交偏振图像获取方法有效
申请号: | 202010358798.2 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111664943B | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 冯斌;赵永强;李琳 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | G01J4/00 | 分类号: | G01J4/00;G02B5/30 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 尹晓雪 |
地址: | 710072 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平面 偏振 探测器 制作方法 正交 图像 获取 方法 | ||
1.一种分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S11:在基底上镀制呈梳状周期排布的单方向偏振膜形成微偏振片阵列;
S12:将所述微偏振片阵列粘贴至焦平面探测器的焦平面构成分焦平面偏振探测器,所述基底和所述焦平面探测器的工作波段具有交集波段I,所述单方向偏振膜的工作波段和交集波段I具有交集波段II;
多条所述单方向偏振膜在所述基底表面呈梳状周期排布,其中单条所述单方向偏振膜的宽度等于其排布周期的1/2;
所述微偏振片阵列粘贴至所述焦平面探测器,所述微偏振片阵列与所述焦平面探测器的对齐方向为沿所述焦平面探测器的焦平面的水平方向对齐、沿所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向对齐两种方向中的任何一种。
2.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,所述基底的厚度为0.1-2.0mm。
3.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,所述焦平面探测器为可见光焦平面探测器、可见-近红外焦平面探测器、可见-短波红外焦平面探测器、短波红外焦平面探测器中的任何一种。
4.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,将所述微偏振片阵列粘贴至所述焦平面探测器的焦平面,所述微偏振片阵列的粘贴面为有所述单方向偏振膜的表面和无所述单方向偏振膜表面中的任何一种。
5.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,所述沿所述焦平面探测器的焦平面的水平方向对齐,所述单方向偏振膜的延展方向与所述焦平面探测器的焦平面的水平方向一致,且单条所述单方向偏振膜与所述焦平面探测器的n1行像元对齐,n1为正整数。
6.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,所述沿所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向对齐,所述单方向偏振膜的延展方向与所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向一致,且单条所述单方向偏振膜与所述焦平面探测器的n2列像元对齐,n2为正整数。
7.根据权利要求1所述的分焦平面偏振探测器的制作方法,其特征在于,将所述微偏振片阵列粘贴至焦平面探测器的焦平面构成分焦平面偏振探测器,包括如下步骤:
S21:在所述焦平面探测器的焦平面上涂厚度小于100nm的紫外敏感胶;
S22:通过在LED光源前增加偏振片构成工作光源,其中所述偏振片的透振方向不同于所述单方向偏振膜的透振方向;
S23:在所述工作光源照射下,调节所述微偏振片阵列的位置和角度,使得所述微偏振片阵列与所述焦平面探测器的焦平面像元对齐;
S24:利用紫外灯曝光,将所述微偏振片阵列与所述焦平面探测器的焦平面固化在一起。
8.一种正交偏振图像获取方法,其特征在于,包括如下步骤:
S31:利用权利要求1-7任一项所述的分焦平面偏振探测器的制作方法所制备的分焦平面偏振探测器中未经所述单方向偏振膜作用的像元输出强度图像,经所述单方向偏振膜作用的像元输出第一幅偏振图像,从而获得所述强度图像和所述第一幅偏振图像;
S32:利用图像放大处理方法,分别对所述强度图像和所述第一幅偏振图像沿垂直于所述单方向偏振膜延展方向进行两倍图像放大处理,对应得到全尺寸的强度图像和全尺寸的第一幅偏振图像,所述图像放大处理方法为最近邻插值、线性插值、三次样条插值、深度学习四种方法中的任何一种;
S33:从所述全尺寸的强度图像中去除所述全尺寸的第一幅偏振图像得到全尺寸的第二幅偏振图像,从而获得两幅全尺寸的正交偏振图像,其中,去除的方法是从β倍的所述全尺寸的强度图像中减去所述全尺寸的第一幅偏振图像得到所述全尺寸的第二幅偏振图像,所述β值是与所述单方向偏振膜的透振方向相同的线偏振光源照射条件下,所述分焦平面偏振探测器输出的所述第一幅偏振图像平均值与所述强度图像平均值的比值,其中图像平均值为图像中所有像素值的平均值。
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