[发明专利]一种双色焦平面探测器的制作方法及双色图像获取方法

权利要求书

1.一种双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

S11：在基底上镀制呈梳状周期排布的单色滤光膜形成微滤光片阵列；

S12：将所述微滤光片阵列粘贴至焦平面探测器的焦平面构成双色焦平面探测器，所述基底和所述焦平面探测器的工作波段具有交集波段I，所述单色滤光膜的工作波段和交集波段I具有交集波段II；

所述微滤光片阵列粘贴至所述焦平面探测器，所述微滤光片阵列与所述焦平面探测器的对齐方向为沿所述焦平面探测器的焦平面的水平方向对齐、沿所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向对齐两种方向中的任何一种；

所述将所述微滤光片阵列粘贴至焦平面探测器的焦平面构成双色焦平面探测器，包括如下步骤：

S21：在所述焦平面探测器的焦平面上涂厚度小于100nm的紫外敏感胶；

S22：通过在LED光源前增加滤光片构成工作光源，其中所述滤光片的工作波段位于所述交集波段I内且与所述单色滤光膜的工作波段无交集；

S23：在所述工作光源照射下，调节所述微滤光片阵列的位置和角度，使得所述微滤光片阵列与所述焦平面探测器的焦平面像元对齐；

S24：利用紫外灯曝光，将所述微滤光片阵列与所述焦平面探测器的焦平面固化在一起。

2.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，多条所述单色滤光膜在所述基底表面呈梳状周期排布，其中单条所述单色滤光膜的宽度等于其排布周期的1/2。

3.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，所述基底的厚度为0.1-2.0mm。

4.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，所述焦平面探测器为可见-近红外焦平面探测器、可见-短波红外焦平面探测器、短波红外焦平面探测器中的任何一种。

5.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，将所述微滤光片阵列粘贴至所述焦平面探测器的焦平面，所述微滤光片阵列的粘贴面为有所述单色滤光膜的表面和无所述单色滤光膜的表面中的任何一种。

6.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，所述沿所述焦平面探测器的焦平面的水平方向对齐，所述单色滤光膜的延展方向与所述焦平面探测器的焦平面的水平方向一致，且单条所述单色滤光膜与所述焦平面探测器的n₁行像元对齐，n₁为正整数。

7.根据权利要求1所述的双色焦平面探测器的制作方法，其特征在于，所述沿所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向对齐，所述单色滤光膜的延展方向与所述焦平面探测器的焦平面的垂直方向一致，且单条所述单色滤光膜与所述焦平面探测器的n₂列像元对齐，n₂为正整数。

8.一种双色图像获取方法，其特征在于，包括如下步骤：

S31：利用权利要求1至权利要求7任一项所述的双色焦平面探测器的制作方法所制备的双色焦平面探测器中未经所述单色滤光膜作用的像元输出宽波段图像，经所述单色滤光膜作用的像元输出第一幅窄波段图像，从而获得所述宽波段图像和所述第一幅窄波段图像；

S32：利用图像放大处理方法，分别对所述宽波段图像和所述第一幅窄波段图像沿垂直于所述单色滤光膜延展方向进行两倍图像放大处理，对应得到全尺寸的宽波段图像和全尺寸的第一幅窄波段图像；

S33：从所述全尺寸的宽波段图像中去除所述全尺寸的第一幅窄波段图像得到全尺寸的第二幅窄波段图像，从而获得两幅全尺寸的窄波段图像，其中，去除的方法是从β倍的所述全尺寸的宽波段图像中减去所述全尺寸的第一幅窄波段图像得到所述全尺寸的第二幅窄波段图像，所述β值是工作波段处于所述单色滤光膜波段内的光源照射条件下，所述双色焦平面探测器输出的所述第一幅窄波段图像平均值与所述宽波段图像平均值的比值，其中图像平均值为图像中所有像素值的平均值。

9.根据权利要求8所述的双色图像获取方法，其特征在于，所述图像放大处理方法为最近邻插值、线性插值、三次样条插值、深度学习四种方法中的任何一种。