[发明专利]笔迹处理方法、设备及介质有效

专利信息
申请号: 202010361395.3 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111381754B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 贾红红;郑瑞;薛瑞彬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06F3/0484 分类号: G06F3/0484;G06T11/20
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 付生辉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 笔迹 处理 方法 设备 介质
【权利要求书】:

1.一种笔迹处理方法,其特征在于,包括:

根据用户通过触摸显示器输入的书写轨迹中的采样点,确定一组轨迹点以及各轨迹点的相关参数,所述相关参数包括坐标参数和时间参数;

根据所述轨迹点的相关参数,判断所述书写轨迹包含的笔画的起笔位置、收笔位置和类型,其中,所述笔画的所述类型包括横、竖、撇、捺和提;

根据所述笔画的类型确定所述笔画的起笔位置的呈现形状;

所述根据所述笔画的类型确定所述笔画的起笔位置的呈现形状包括:

使所述笔画的起笔位置的呈现形状为与所述笔画的类型对应的椭圆形;

所述使所述笔画的起笔位置的呈现形状为与所述笔画的类型对应的椭圆形包括:

设所述笔画包含N个轨迹点,将所述笔画的起笔位置对应于第1个轨迹点的位置;

对于笔画横,使起笔位置的呈现形状为中心点为第1个轨迹点的位置、长轴长度为1.5*w、短轴长度为w且顺时针旋转25°~35°的椭圆形,其中,w为书写轨迹预设线宽值;

对于笔画竖,使起笔位置的呈现形状为中心点为第1个轨迹点的位置、长轴长度为2.5*w、短轴长度为w且长轴由平行于x轴顺时针旋转45°~55°的椭圆形;

对于笔画撇,使起笔位置的呈现形状为中心点为第1个轨迹点的位置、长轴长度为2*w、短轴长度为w且长轴由平行于x轴顺时针旋转70°~80°的椭圆形;

对于笔画捺,使起笔位置的呈现形状为中心点为第1个轨迹点的位置、长轴长度为3.5*w、短轴长度为0.8*w且长轴由平行于x轴顺时针旋转40°~50°的椭圆形;

对于笔画提,使起笔位置的呈现形状为中心点为第1个轨迹点的位置、长轴长度为2*w、短轴长度为w且长轴由平行于x轴顺时针旋转25°~35°的椭圆形。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该方法还包括:

根据所述笔画包含的轨迹点的相关参数,确定所述笔画的收笔位置的呈现形状。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述笔画包含的轨迹点的相关参数,确定所述笔画的收笔位置的呈现形状包括:

设所述笔画包含N个轨迹点,根据所述笔画包含的第N-2个轨迹点、第N-1个轨迹点和第N个轨迹点的相关参数计算所述笔画的收笔位置对应的书写速度变化量,根据所述书写速度变化量确定所述笔画的收笔触位置的呈现形状的书写轨迹线宽。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述笔画包含的第N-2个轨迹点、第N-1个轨迹点和第N个轨迹点的相关参数计算所述笔画的收笔位置对应的书写速度变化量,根据所述书写速度变化量确定所述笔画的收笔触位置的呈现形状的书写轨迹线宽包括:

根据第N-2个轨迹点和第N-1个轨迹点的相关参数计算第N-2个轨迹点与第N-1个轨迹点之间的书写轨迹的书写速度vN-1,根据第N-1个轨迹点和第N个轨迹点的相关参数计算第N-1个轨迹点与第N个轨迹点之间的书写轨迹的书写速度vN,并计算得到笔画的收笔位置对应的书写速度变化量Δv=vN-vN-1

根据所述书写速度变化量Δv确定所述笔画的收笔触位置的呈现形状的书写轨迹线宽:

若ΔvΔvMAX,则在第N-1个轨迹点与第N个轨迹点的连线延长线上设置一辅助点以延长笔画至该辅助点,第N个轨迹点与辅助点之间的书写轨迹线宽逐渐减小;

若ΔvΔvMIN,则设置第N-1个轨迹点与第N个轨迹点之间的书写轨迹线宽逐渐增大;

其中,ΔvMIN和ΔvMAX分别为预设的最小书写速度变化量阈值和最大书写速度变化量阈值。

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