[发明专利]亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品有效

专利信息
申请号: 202010364184.5 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111501015B 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 宗坚 申请(专利权)人: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 214000 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 亲水防雾膜层 及其 制备 方法 应用 产品
【权利要求书】:

1.一亲水防雾膜层,其特征在于,其以二氧化钛前体源和非金属掺杂源作为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成,其中所述二氧化钛前体源为钛基源化合物加氧基源或钛氧有机化合物中的一种;

其中,在可见光下所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°,放置6个月接触角保持在原先水平;

其中所述钛氧有机化合物具有结构式TiX,其中X是烷氧基;

其中所述钛基源化合物具有结构式TiY,其中Y是卤素;

其中所述氧基源为氧气;

其中所述非金属掺杂源中的非金属元素选自组合C、N、F和S中一种或者几种;

其中PECVD装置的反应腔室的温度控制为30~60℃,形成过程包括一预处理阶段和一镀膜阶段,在所述预处理阶段,等离子体放电功率为150~600W,持续放电时间60~450s,然后进入所述镀膜阶段,调整等离子体放电功率为10~200W,持续放电时间600~7200s。

2.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层,其中所述钛氧有机化合物为选自组合钛酸四丁酯和钛酸四异丙酯、钛酸乙酯的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层,其中所述钛基源化合物为四氯化钛。

4.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层,其中所述非金属掺杂源选自组合氮气(N2)、氨气(NH3)、乙炔(C2H2)、八氟丙烷(C3F8)中的一种或几种。

5.根据权利要求1至4任一所述的亲水防雾膜层,其中在可见光下所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°。

6.根据权利要求1至4任一所述的亲水防雾膜层,其中所述亲水防雾膜层的厚度为20nm-10μm,硬度为HB-4H。

7.一亲水防雾膜层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

在一PECVD装置内以二氧化钛前体源和非金属掺杂源为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成一亲水防雾膜层,其中所述二氧化钛前体源为钛基源化合物加氧基源或钛氧有机化合物中的一种;

在可见光下所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°,放置6个月接触角保持在原先水平;

其中所述钛氧有机化合物具有结构式TiX,其中X是烷氧基;

其中所述钛基源化合物具有结构式TiY,其中Y是卤素;

其中所述氧基源为氧气;

其中所述非金属掺杂源中的非金属元素选自组合C、N、F和S中一种或者几种;

其中所述PECVD装置的反应腔室的温度控制为30~60℃,形成过程包括一预处理阶段和一镀膜阶段,在所述预处理阶段,等离子体放电功率为150~600W,持续放电时间60~450s,然后进入所述镀膜阶段,调整等离子体放电功率为10~200W,持续放电时间600~7200s。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其中所述钛氧有机化合物为选自组合钛酸四丁酯和钛酸四异丙酯、钛酸乙酯的一种或几种。

9.根据权利要求7所述的制备方法,其中所述钛基源化合物为四氯化钛。

10.根据权利要求7所述的制备方法,其中所述非金属掺杂源选自组合氮气(N2)、氨气(NH3)、乙炔(C2H2)、八氟丙烷(C3F8)中的一种或几种。

11.根据权利要求7至10任一所述的制备方法,其中所述基材在所述PECVD装置的反应腔室中运动,所述基材的运动方式选自组合直线运动和曲线运动中的一种或者两种。

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