[发明专利]亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品

权利要求书

1.一亲水防雾膜层，其特征在于，其以烯烃单体作为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。

2.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：

其中R₁、R₂、R₃选自氢基、烷基、芳香基团。

3.根据权利要求1所述的亲水防雾基团，其中所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：

其中中R₄、R₅、R₆选自氢基、烷基、芳香基团，其中R₇选自氢基、烷基、芳香基团、金属阳离子，其中R₁₂选自键、亚烷基、芳基亚基基团。

4.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：

其中R₈、R₉、R₁₀各自选自氢基、烷基、芳香基团，其中R₁₁选自亚烷基、芳基亚基基团、-COO-R₁₃、-OCO-R₁₄、-CO-R₁₅，R₁₃、R₁₄、R₁₅各自选自亚烷基、芳基亚基基团。

5.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选自组合丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯中的一种或几种。

6.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°。

7.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的厚度为20nm-10μm，硬度为HB-4H。

8.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的透光率大于91％。

9.一种亲水防雾膜层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在一PECVD装置内以烯烃单体为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成一亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：

其中R₁、R₂、R₃选自氢基、烷基、芳香基团。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：

其中中R₄、R₅、R₆选自氢基、烷基、芳香基团，其中R₇选自氢基、烷基、芳香基团、金属阳离子，其中R₁₂选自键、亚烷基、芳基亚基基团。