[发明专利]一种直线易撕裂镀铝尼龙薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种直线易撕裂镀铝尼龙薄膜，其特征在于：其膜层结构包括基膜和铝蒸镀层；

其中，所述基膜为三层共挤双向拉伸尼龙薄膜，由上至下依次为A、B、C层；以质量百分数计，A层和C层均由67%～79.5%尼龙6、20%～30%特种尼龙组合物、0.5%～3%防粘尼龙母料组成；B层由60%～70%尼龙6和30%～40%特种尼龙组合物组成；

所述特种尼龙组合物含有MXD6-PA66共聚物、长碳链尼龙、尼龙共聚物和相容剂；

所述长碳链尼龙为由碳原子数为5-20的α,ω-直链脂肪族二羧酸和碳原子数为5-20的α,ω-直链脂肪族二胺缩聚而成的奇偶长碳链尼龙，或者由碳原子数为5-20的α,ω-直链脂肪族二羧酸和碳原子数为5-20的α,ω-直链脂肪族二胺缩聚而成的偶偶长碳链尼龙;所述长碳链尼龙的熔点为175～240℃；

所述的尼龙共聚物为PA66/PA6共聚物、MXD6/PA6共聚物和MXD6/PA1010共聚物中的至少一种；

所述相容剂为MXD6-g-MAH和MXD6-g-GMA中的至少一种；

所述MXD6-PA66共聚物、长碳链尼龙、尼龙共聚物和相容剂的含量比为6～8：3～4：2～3：1～2。

2.根据权利要求1所述的直线易撕裂镀铝尼龙薄膜，其特征在于：所述的MXD6-PA66共聚物中PA66组分占比为1%～10%。

3.根据权利要求1所述的直线易撕裂镀铝尼龙薄膜，其特征在于：所述A和C层至少一面进行电晕处理，其电晕值＞50dyn。

4.根据权利要求1所述的直线易撕裂镀铝尼龙薄膜，其特征在于：所述基膜厚度为10～25μm，所述A层和C层厚度均为1～4μm；

所述铝蒸镀层厚度为30～400nm。

5.一种如权利要求1～4任一项所述的直线易撕裂镀铝尼龙薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一、基膜制备：

①将A、B、C层中各组分按比例分别进行混合，并通过高速搅拌机分散均匀；

②将①混合均匀的原料通过三台挤出机熔融、共挤出，使熔体通过T型口模流延至表面温度为15～35℃的激冷辊骤冷铸片；

③将②中的铸片在40～75℃水槽中实施1～2分钟的调湿处理，调湿后的铸片表面用气刀将表面残留水分吹干，并进行同步或者分步拉伸，拉伸温度为130～205℃，拉伸倍率2.5×2.5～3.5×3.5；

④将③中的得到的薄膜经过热定型处理，定型的温度为180～215℃，并对A层和C层中的至少一层进行电晕处理，然后收卷、分切得到所述的基膜，其中基膜厚度为10～25μm，A层和C层厚度均为1～4μm；

步骤二、在真空镀铝机中，将步骤一中的基膜放卷，在电晕面上进行等离子体处理，同时将高纯度的铝丝加热使其成气态铝，使铝原子附着到薄膜的表面上形成镀铝层。

6.根据权利要求5所述的直线易撕裂镀铝尼龙薄膜的制备方法，其特征在于：所述的铝丝纯度为99.99%，铝丝是通过高频感应加热蒸发,温度为1500℃，真空度为4×10^-4mbar，镀铝层的均匀度控制在5%以内。