[发明专利]基于黑碳化硅陶瓷的热电型光探测器在审
申请号: | 202010366053.0 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN111551247A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 李德龙 | 申请(专利权)人: | 李德龙 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42;G01J1/44 |
代理公司: | 北京汲智翼成知识产权代理事务所(普通合伙) 11381 | 代理人: | 陈曦;王鹏丽 |
地址: | 100096 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 碳化硅 陶瓷 热电 探测器 | ||
1.一种热电型光探测器,其特征在于包括由黑碳化硅陶瓷制作的导热板。
2.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于所述导热板的一侧表面是光学吸收面,所述光学吸收面上设置热电堆。
3.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于所述导热板的一侧表面是光学吸收面,另一侧表面设置热电堆。
4.如权利要求2或3所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述热电堆围绕光学入射区域形成闭合曲线。
5.如权利要求4所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述热电堆和绝热边共同围绕光学入射区域形成闭合曲线。
6.如权利要求2或3所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述光学吸收面采用研磨方式清洁。
7.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷由黑碳化硅粉体烧结而成。
8.如权利要求7所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷由黑碳化硅粉体在加压环境中烧结而成。
9.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷的密度在2.6~3.2g/cm3之间。
10.如权利要求2或3所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷的光学吸收面非镜面。
11.如权利要求10所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷的光学吸收面的表面粗糙度Ra在0.8~6.3um之间。
12.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷的光学损伤阈值为窄脉冲高峰值功率下大于3GW/cm2且宽脉冲高能量下至少200~500J/cm2。
13.如权利要求1所述的热电型光探测器,其特征在于:
所述黑碳化硅陶瓷包括但不限于颜色较深的深蓝色、深灰色和黑灰色碳化硅陶瓷。
14.一种热电型光功率计,其特征在于包括电压表及权利要求1所述的热电型光探测器,所述电压表与所述热电型光探测器的输出端连接。
15.一种热电型光能量计,其特征在于包括电压表及权利要求1所述的热电型光探测器,所述电压表与所述热电型光探测器的输出端连接。
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