[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，

具有：

基板支撑部，其以水平状态从下侧支撑基板，

上侧旋转构件，其配置在所述基板支撑部的上方，

位置限制构件，其在以朝向上下方向的中心轴为中心的周向上，限制所述上侧旋转构件相对于所述基板支撑部的相对位置，

基板按压部，其固定在所述上侧旋转构件上，并从上侧按压被所述基板支撑部支撑的所述基板，

基板旋转机构，其使所述基板与所述基板支撑部、所述基板按压部及所述上侧旋转构件一起进行旋转，

处理液供给部，其向所述基板上供给处理液；

腔室，其具有腔室主体以及腔室盖部，通过所述腔室盖部堵塞所述腔室主体的上部开口来形成密闭的内部空间，

腔室开闭机构，其使所述腔室盖部相对于所述腔室主体在所述上下方向上进行移动，

所述基板保持部配置在所述腔室内，

所述基板支撑部具有多个第一接触部，该多个第一接触部分别在多个第一接触位置与所述基板的外缘部接触，

所述基板按压部具有多个第二接触部，该第二接触部分别在多个第二接触位置与所述基板的所述外缘部接触，其中，所述第二接触位置是在所述周向上与所述多个第一接触位置不同的位置，

在所述腔室盖部在所述上下方向上进行相对移动时，所述上侧旋转构件被所述腔室盖部支撑并与所述腔室盖部一起进行移动。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在各第一接触部的周向上的两侧以与各所述第一接触部相邻的方式配置有两个第二接触部，或者在各第二接触部的周向上的两侧以与各所述第二接触部相邻的方式配置有两个第一接触部。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第一接触部分别具有第一倾斜面，该第一倾斜面越朝向以所述中心轴为中心的径向内侧越朝向下侧，并且所述第一倾斜面与所述基板的外缘部相接触。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述多个第二接触部分别具有第二倾斜面，该第二倾斜面越朝向以所述中心轴为中心的径向内侧越朝向上侧，并且所述第二倾斜面与所述基板的外缘部相接触。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述多个第一接触部各自的上端部位于所述多个第二接触部各自的下端部的上方。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述上侧旋转构件呈与所述中心轴垂直的板状，

所述上侧旋转构件的下表面与所述基板的上表面相向。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述上侧旋转构件的外周缘，在以所述中心轴为中心的径向上，在整周上位于所述基板的外周缘的外侧。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述基板支撑部以及所述上侧旋转构件上设置有在所述上下方向上相向的一对磁铁，所述基板按压部借助作用于所述一对磁铁之间的磁力，朝向所述基板支撑部按压所述基板。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板按压部借助所述上侧旋转构件的自重，朝向所述基板支撑部按压所述基板。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板旋转机构具有：

环状的转子部，其配置在所述腔室的所述内部空间内，并安装有所述基板支撑部；

定子部，其配置在所述腔室外的所述转子部的周围，在与所述转子部之间产生旋转力。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述转子部借助作用于所述转子部和所述定子部之间的磁力，在所述内部空间内以悬浮状态进行旋转。