[发明专利]一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法

权利要求书

1.一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，包括莫来石陶瓷层，其特征在于：在莫来石陶瓷层中夹入铝层，以阻止莫来石中应力裂纹的生长。

2.根据权利要求1所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其特征在于：所述莫来石陶瓷层在研磨截面中，含有长宽比为1以上且2以下的莫来石的球状粒子及长宽比为超过2且10以下的莫来石的针状粒子，并且球状粒子的平均粒径为5-l0um，针状粒子的平均长径为球状粒子的平均粒径的2-10倍，而且针状粒子的长径为12-90um，针状粒子的面积/全部粒子的面积的比为0.03-0.3。

3.根据权利要求2所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其特征在于：所述莫来石陶瓷层研磨截面中的长宽比超过10的粗大针状粒子的面积/全部粒子的面积的比为0.2以下。

4.根据权利要求2或3所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其特征在于：所述莫来石陶瓷层表观气孔率为5-27％。

5.根据权利要求2或3所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其特征在于：所述莫来石陶瓷层在研磨截面中，具有针状粒子的平均长径的5倍以上的长径的粗大气孔的面积的总和相对于观察视野的面积的比例为0.07以下。

6.根据权利要求4所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其特征在于：所述莫来石陶瓷层在研磨截面中，具有针状粒子的平均长径的5倍以上的长径的粗大气孔的面积的总和相对于观察视野的面积的比例为0.07以下。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：在含氧气氛下、在1700-1800℃下，使包含氧化铝、二氧化硅及平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物的莫来石陶瓷层原料中加入铝层反应烧结，生成具有高抗裂性复合日用陶瓷制品，其中，所述含Si化合物为SiC、Si₃N₄、Si₂ON₂或赛隆，将烧成中的900-1700℃间的平均升温速度设定为25-3000C/小时。

8.根据权利要求7所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品的制备方法，其特征在于：通过湿式混合将氧化铝、二氧化硅及所述平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物浆料化，在将所得到的浆料浇铸成型或者将该浆料喷雾干燥并将所得到的颗粒冲压成型或CIP成型后进行反应烧成。

9.根据权利要求7所述的一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品的制备方法，其特征在于：通过半湿式将氧化铝、二氧化硅及所述平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物混炼，在将所得到的混炼物可塑成型后进行反应烧成。