[发明专利]一种基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架

权利要求书

1.一种基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：包括用于放置灶具用的灶具支架，在灶具支架的顶部覆盖一层远红外辐射物质，在加热时辐射出远红外线，利用灶具支架表面所吸收的热能转化为远红外线加热。

2.根据权利要求1所述的基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：所述远红外辐射物质为搪瓷，瓷釉以ZrO2•SiO2为主体，瓷层具有较宽的辐射波段。

3.根据权利要求1所述的基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：所述灶具支架包括支架座（2）、长支架（3）以及短支架（1），所述长支架（3）以及短支架（1）分别安装于支架座（2）的底部，作为支架座（2）的支撑。

4.根据权利要求3所述的基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：支架座（2）的顶部形成一个远红外辐射层，远红外辐射物质覆盖在支架座（2）的顶面上。

5.根据权利要求3所述的基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：支架座（2）的顶部四个角的位置还设置有硅胶垫（4）。

6.根据权利要求3所述的基于远红外辐射搪瓷技术的灶具锅支架，其特征在于：所述短支架（1）设置于支架座（2）的四个边的中间位置，其向着支架座的顶部中间位置延伸，短支架（1）设置为四根，四根短支架（1）中间形成一个远红外辐射区域（5）。