[发明专利]一种提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法有效
申请号: | 202010372412.3 | 申请日: | 2020-05-06 |
公开(公告)号: | CN111653486B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 王斌;贺贤汉;孙泉;周轶靓;葛荘;欧阳鹏 | 申请(专利权)人: | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人: | 赵建敏 |
地址: | 224200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 陶瓷 冷热 冲击 可靠性 方法 | ||
1.一种提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于,所述覆铜陶瓷基板为活性金属钎焊陶瓷基板,在图形化工艺后进行,包括如下步骤:
A,极冷处理阶段:将图形化工艺后的覆铜陶瓷基板产品,清洗表面脏污和杂质后置于-55℃~-75℃温度环境下2min-3min;
B,缓慢升温阶段:升温速率为0.4~0.8℃/min,升温至20℃±5℃,用时2-3h,使得经过极冷处理的覆铜陶瓷基板产品温度提升至20℃±5℃;
C,室温处理阶段:将所述覆铜陶瓷基板产品置于20℃±5℃温度环境下2min-3min;
D,将步骤C中的产品再依次置于步骤A、B、C所述的环境中,循环操作3-10次。
2.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,步骤A中,采用除油剂和纯水清洗覆铜陶瓷基板产品表面的脏污和杂质。
3.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,步骤C中的温度环境为20~25℃。
4.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,步骤D中,循环操作次数为5-7次。
5.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,所述覆铜陶瓷基板产品中陶瓷基板、图形面、非图形面的厚度分别为1.0mm、0.3mm、0.25mm。
6.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,所述覆铜陶瓷基板产品有蚀刻台阶。
7.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,所述覆铜陶瓷基板产品中陶瓷基板或焊料表面进行改性处理。
8.根据权利要求1所述的提高覆铜陶瓷基板冷热冲击可靠性的方法,其特征在于:
其中,进行处理时,将覆铜陶瓷基板产品置于干冰保温箱中,控制温度在-55℃~-75℃,保温2-3min后,用时2-3h让干冰逐渐完全挥发,至室温保温2-3min,通过不断重复添加批次干冰来实现循环操作。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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