[发明专利]一种均匀镀膜的方法在审
| 申请号： | 202010372848.2 | 申请日： | 2020-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN111394698A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 季泳;张龚磊 | 申请（专利权）人： | 贵州省高新光电材料及器件研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 贵州派腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人： | 宋妍丽 |
| 地址： | 550000 贵州省贵阳市贵阳国家高新*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 镀膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种均匀镀膜的方法，其特征在于：在真空炉腔中的旋转装置上安装有工件盘，在往复运动装置上安装蒸发源、使得蒸发源可垂直于工件盘旋转轴线的延长线做径向移动，往复运动装置固定于炉腔；将产品固定在工件盘上后，在旋转装置带动工件盘转动的同时，往复运动装置带动蒸发源做径向往复运动，从而完成对产品的镀膜。
2.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘旋转速度为3～1000RPM。
3.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：通过调整所述旋转装置的转动速率、往复运动装置的移动速度、往复运动装置的移动频率，来调整膜层的均匀性。
4.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘上固定产品的一面，为平面、球面或抛物面。
5.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述蒸发源为电子枪、热蒸发器或镀膜靶材。
6.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：蒸发源在往复运动装置上是沿轨道运动。
7.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述工件盘为匀速运动。
8.如权利要求1所述的均匀镀膜的方法，其特征在于：所述蒸发源和往复运动装置的数量均为一个或一个以上，且蒸发源和往复运动装置一一对应。
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