[发明专利]基片载置台和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种在等离子体处理腔室中使用的基片载置台，其特征在于，包括：

具有销用贯通孔的主体，其中所述销用贯通孔具有带内螺纹的内壁；

具有根端部分、中间部分和前端部分的升降销，所述升降销被插入所述销用贯通孔，所述中间部分带有外螺纹，所述带外螺纹的中间部分能够被拧入所述带内螺纹的内壁；以及

使所述升降销相对于所述主体垂直地移动的移动机构。

2.如权利要求1所述的基片载置台，其特征在于：

所述升降销能够在上方位置与下方位置之间移动，

当所述升降销位于上方位置时，所述升降销的所述带外螺纹的中间部分从所述带内螺纹的内壁被释放。

3.如权利要求2所述的基片载置台，其特征在于：

当所述带外螺纹的中间部分与所述带内螺纹的内壁嵌合时，所述移动机构使所述升降销以第一速度垂直地移动，或者

在所述带外螺纹的中间部分从所述带内螺纹的内壁被释放后，所述移动机构使所述升降销以与所述第一速度不同的第二速度垂直地移动。

4.如权利要求3所述的基片载置台，其特征在于：

所述前端部分的上表面包含与基片的材料相比具有高耐磨性的材料。

5.如权利要求4所述的基片载置台，其特征在于：

还包括静电吸盘。

6.如权利要求1所述的基片载置台，其特征在于：

所述前端部分的上表面包括与基片的材料相比具有高耐磨性的材料。

7.如权利要求1所述的基片载置台，其特征在于：

还包括静电吸盘。

8.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

具有等离子体处理空间的腔室；

从所述等离子体处理空间内的至少一种气体形成等离子体的等离子体生成器；和

配置于所述等离子体处理空间的基片载置台，

所述基片载置台包括：

具有销用贯通孔的主体，其中所述销用贯通孔具有带内螺纹的内壁；

具有根端部分、中间部分和前端部分的升降销，所述升降销被插入所述销用贯通孔，所述中间部分带有外螺纹，所述带外螺纹的中间部分能够被拧入所述带内螺纹的内壁；以及

使所述升降销相对于所述主体垂直地移动的移动机构。

9.如权利要求8所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述升降销能够在上方位置与下方位置之间移动，

当所述升降销位于上方位置时，所述升降销的所述带外螺纹的中间部分从所述带内螺纹的内壁被释放。

10.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于：

当所述带外螺纹的中间部分与所述带内螺纹的内壁嵌合时，所述移动机构使所述升降销以第一速度垂直地移动，或者

在所述带外螺纹的中间部分从所述带内螺纹的内壁被释放后，所述移动机构使所述升降销以与所述第一速度不同的第二速度垂直地移动。

11.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述前端部分的上表面包含与基片的材料相比具有高耐磨性的材料。

12.如权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于：

还包括静电吸盘。

13.如权利要求8所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述前端部分的上表面包含与基片的材料相比具有高耐磨性的材料。

14.如权利要求8所述的等离子体处理装置，其特征在于：

还包括静电吸盘。