[发明专利]一种稠杂环化合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010379080.1 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111454265B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 李祥智;蔡烨;丁欢达;魏定纬;陈志宽 申请(专利权)人: 宁波卢米蓝新材料有限公司;西北工业大学宁波研究院
主分类号: C07D471/16 分类号: C07D471/16;C07D471/22;C09K11/06;H01L51/54
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 315040 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 杂环化合物 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明提供了一种稠杂环化合物及其制备方法和应用,所述稠杂环具有式I或式II所示的结构,所述稠杂环化合物用作有机电致发光器件中的发光材料,所述有机电致发光器件包括基板、第一电极、第二电极和插入在所述第一电极和第二电极之间的至少一层有机层,所述有机层中含有所述稠杂环化合物中的任意一种或至少两种组合;所述稠杂环化合物具有较高的发光效率以及较久的使用寿命。

技术领域

本发明涉及有机电致发光技术领域,特别涉及一种稠杂环化合物及其制备方法和应用。

背景技术

电致发光装置(EL装置)是一种自发光显示装置,其优点在于它提供更宽的视角、更大的对比率和更快的响应时间。

有机EL装置(OLED)通过向有机发光材料施加电力而将电能转换为光,并且通常包含阳极、阴极和在这两个电极之间形成的有机层。

如果需要,OLED的有机层可以包含空穴注入层、空穴传输层、空穴辅助层、发光辅助层、电子阻挡层、发光层(含有主体和掺杂剂材料)、电子缓冲层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层等。可以根据功能将有机层中使用的材料分为空穴注入材料、空穴传输材料、空穴辅助材料、发光辅助材料、电子阻挡材料、发光材料、电子缓冲材料、空穴阻挡材料、电子传输材料、电子注入材料等。

在OLED中,通过施加电压将来自阳极的空穴和来自阴极的电子注入到发光层中,并且通过空穴和电子的再结合产生具有高能量的激子。有机发光化合物通过能量移动到激发态并由当有机发光化合物从激发态返回到基态时的能量发射光。

决定有机EL装置中的发光效率的最重要因素是发光材料。发光材料要求具有以下特征:高量子效率、电子和空穴的高移动度、以及所形成的发光材料层的均匀性和稳定性。

根据发光颜色将发光材料分为蓝色、绿色和红色发光材料,并且进一步包括黄色或橙色发光材料。此外,在功能方面,将发光材料分为主体材料和掺杂剂材料。

最近,迫切的任务是开发具有高效率和长寿命的有机EL装置。具体地,考虑到中型和大型OLED面板所需的EL特性,迫切需要开发优于常规材料的高度优异的发光材料。

发明内容

针对现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种稠杂环化合物及其制备方法和应用,该稠杂环化合物具有较高的效率以及较久的寿命。

为达此目的,本发明采用如下技术方案:

本发明的目的在于提供一种稠杂环化合物,所述稠杂环化合物具有式I或式II所示的结构:

其中,L选自单键、取代或未取代的C1-C30亚烷基、取代或未取代的C6-C30亚芳基、取代或未取代的C3-C30的亚杂芳基、取代或未取代的C3-C30亚环烷基中的任意一种;

n为0-2的整数,例如0、1或2;

Ar选自取代或未取代的C6-C60的芳基、取代或未取代的C3-C60的杂芳基、取代或未取代的C6-C60的芳氧基、取代或未取代的C6-C60的芳香胺基、取代或未取代的C6-C60的硫代芳氧基、取代或未取代的C6-C60的芳硼基、取代或未取代的C6-C60的芳膦基、取代或未取代的C4-C60的杂芳氧基、取代或未取代的C4-C60的杂芳香胺基、取代或未取代的C4-C60的硫代杂芳氧基、取代或未取代的C4-C60的杂芳硼基、取代或未取代的C4-C60的杂芳膦基中的任意一种;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波卢米蓝新材料有限公司;西北工业大学宁波研究院,未经宁波卢米蓝新材料有限公司;西北工业大学宁波研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010379080.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top