[发明专利]一种定量表征氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布均匀性的方法在审

专利信息
申请号: 202010379103.9 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111766261A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 刘文凤;张磊;李盛涛;李建英 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N23/2251 分类号: G01N23/2251;G01N1/32;G01N1/34;G01B15/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 王艾华
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 定量 表征 氧化锌 电阻 微观 晶粒 尺寸 分布 均匀 方法
【权利要求书】:

1.一种定量表征氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布均匀性的方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)试样准备:将待表征的氧化锌电阻片的表面依次经过物理抛光、清洗烘干、腐蚀、喷金等步骤处理后,作为晶粒尺寸分布均匀性表征的目标试样;

2)获取显微形貌照片:采用扫描电子显微镜观测步骤1)得到的目标试样的表面,设置放大倍数并保证对焦清晰后拍摄目标试样的显微形貌,获得多张显微形貌照片;

3)提取晶粒数据:采用ImageJ软件对步骤2)得到的显微照片进行统计,提取照片中氧化锌晶粒的面积,将晶粒面积近似等效为圆形,记等效圆的直径为晶粒尺寸数据;

4)拟合晶粒尺寸数据:对步骤3)获得的晶粒尺寸数据绘制分布直方图,并采用对数正态分布概率密度函数拟合直方图并提取期望和标准差;

5)定量表征晶粒尺寸分布不均匀性:对于步骤4)得到的对数正态分布拟合曲线计算晶粒尺寸分布均匀系数判断电阻片晶粒尺寸分布均匀程度。

2.根据权利要求1所述的定量表征氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布均匀性的方法,其特征在于,步骤4),对数正态概率密度其定义为:

式中:x是晶粒尺寸数据;

f(x)是对数正态分布概率密度;

μ是描述对数正态分布的位置参数;

σ是描述对数正态分布的形状参数。

3.根据权利要求1所述的定量表征氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布均匀性的方法,其特征在于,步骤5),从对数正态分布拟合曲线中提取标准差SD(x)和期望E(x),其计算公式如下:

式中:x是晶粒尺寸数据;

E(x)是对数正态分布期望;

SD(x)是对数正态分布标准差;

μ是描述对数正态分布的位置参数;

σ是描述对数正态分布的形状参数。

进一步地,得到定量表征晶粒尺寸分布不均匀系数CV(x)为:

式中:x是晶粒尺寸数据;

CV(x)是晶粒尺寸分布不均匀系数;

E(x)是对数正态分布期望;

SD(x)是对数正态分布标准差。

4.根据权利要求1所述的定量表征氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布均匀性的方法,其特征在于,步骤5),根据计算出来的不均匀系数CV(x)的结果定量判断氧化锌电阻片微观晶粒尺寸分布的均匀程度:不均匀系数CV(x)越小,晶粒尺寸分布越均匀;反之,不均匀系数越大,晶粒尺寸分布越不均匀。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010379103.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top