[发明专利]一种图像筛选方法、装置、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 202010379296.8 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN111626301B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 苏睿 申请(专利权)人: 京东科技信息技术有限公司
主分类号: G06V10/26 分类号: G06V10/26;G06V10/46;G06V10/774
代理公司: 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 代理人: 杜欣;李雪
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 图像 筛选 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像筛选方法,其特征在于,包括:

采用预训练的图像分割模型对包含待分析对象的待处理图像进行图像语义分割,得到掩膜图像;

对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理,得到标准掩膜图像;

对所述标准掩膜图像进行特征提取,得到所述标准掩膜图像的特征;

将所述标准掩膜图像的特征输入预训练的姿态确定模型,确定所述标准掩膜图像中包含的待分析对象的姿态是否满足预设的姿态要求;

确定姿态满足预设姿态要求的待分析对象所属的标准掩膜图像作为最终掩膜图像,以通过所述最终掩膜图像对所述待分析对象进行生物分析;

其中,所述预训练的姿态确定模型为利用预设的模型超参数和多张包含所述待分析对象的样本图像的特征对预设的XGBoost模型进行训练后得到的模型,其中所述样本图像中包含的所述待分析对象的姿态已知是否满足预设的姿态要求;

对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理,得到标准掩膜图像,包括:

对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行图像转正处理;

基于图像转正处理后的所述待分析对象的首尾朝向,对所述待分析对象进行调整,得到所述标准掩膜图像;

对所述标准掩膜图像进行特征提取,得到所述标准掩膜图像的特征,包括:

对所述标准掩膜图像进行尺寸调整,得到对应的像素矩阵;

基于所述像素矩阵和所述标准掩膜图像对应的原始高度像素值,得到所述标准掩膜图像的特征。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理之前,所述方法还包括:

检测所述掩膜图像中包含的待分析对象的数量;

若所述数量大于1,则将所述掩膜图像拆分为对应数量张只包含单个待分析对象的掩膜图像;

对只包含单个待分析对象的掩膜图像,执行对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理的步骤。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理之前,所述方法还包括:

确定包含的待分析对象不完整的待剔除掩膜图像;

将所述待剔除掩膜图像从所述掩膜图像中删除;

对将所述待剔除掩膜图像删除后的所述掩膜图像执行对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理的步骤。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,确定包含的待分析对象不完整的待剔除掩膜图像,包括:

获取掩膜图像中所述待分析对象的图像位置信息;

根据所述图像位置信息,判断所述掩膜图像是否满足预设剔除条件;

若所述掩膜图像满足所述预设剔除条件,则确定所述掩膜图像为包含的待分析对象不完整的待剔除掩膜图像。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述预设剔除条件包含以下条件中的至少一个:

所述掩膜图像中包含的待分析对象在所述待处理图像的边界;

所述掩膜图像中包含的待分析对象与所述待处理图像的边界重合度大于预设的第一像素;

所述掩膜图像中包含的待分析对象与所述待处理图像的边界重合度大于预设的第二像素;

所述掩膜图像中包含的待分析对象的宽高比大于预设的比值。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行位置矫正处理,得到标准掩膜图像,包括:

对所述掩膜图像中的所述待分析对象进行图像转正处理;

判断图像转正处理后的所述待分析对象的首尾朝向是否满足预设首尾朝向;

若不满足,则将转正后的所述待分析对象的首尾朝向调整至所述预设首尾朝向,得到标准掩膜图像;

若满足,则确定图像转正处理后的掩膜图像为标准掩膜图像。

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