[发明专利]一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法

说明书

本发明提供了一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域；本发明中，通过对镀膜玻璃镀膜层的优化设计，降低产品的反射率，同时提高产品的耐氧化能力；一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有九个膜层，其中第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层和第六层为第二电介质组合层，第七层为低辐射功能层,第八层为第二阻挡保护层，第九层为第三电介质层。本发明玻璃具有反射率低、抗氧化能力强等优点。

技术领域

本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。

背景技术

作为一种优良的建筑材料，玻璃由于其良好的通透性，具有透光防风雪的功能，被广泛应用于建筑上。随着现代科技水平的发展，玻璃被赋予各种新的内涵，其中low-E玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性，在建筑幕墙领域已受到广泛应用。Low-E玻璃又称低辐射玻璃，常使用磁控溅射法在玻璃基片表面沉积出纳米膜层，进而改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，达到装饰、节能、环保等目的。

作为节能建筑材料，low-E玻璃的节能特性与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比，Low-E玻璃对远红外辐射具有极高的反射率。可保持室内温度稳定，减少建筑加热或制冷的能耗，起到了非常优秀的节能降耗作用。而中透低反低辐射镀膜玻璃，整体颜色为灰色，更为人眼所接受，整体辐射率接近于白玻,耐氧化性能更加高。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何通过对镀膜玻璃的膜层优化设计，降低产品的反射率，同时提高产品的耐氧化能力。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有九个膜层，其中第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层和第六层为第二电介质组合层，第七层为低辐射功能层,第八层为第二阻挡保护层，第九层为第三电介质层。

在上述一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃中，所述第一层为SiN_x层，所述第二层为ZnAl层,所述第三层Ag层，所述第四层为NiCr层，所述第五层为SiN_x层，所述第六层为ZnAl层,所述第七层Ag层，所述第八层为NiCr层，所述第九层为SiNx层。

由于本中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃的膜层反射率较低，使用普通白玻原片生产时产品室外观察整体为灰色。

一种中透低反灰色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

A、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为20～30nm；

B、磁控溅射第二层：

靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：纯氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为20～25nm；

C、磁控溅射第三层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为7～7.5nm；

D、磁控溅射第四层：