[发明专利]一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置

说明书

本发明公开了一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置，包括废水收集池，pH调节池、生化处理单元、缓冲池、陶瓷膜过滤装置、化学清洗装置、高氮收集池，所述废水收集池储存显影液废水，通过管道依次与pH调节池、生化处理单元、缓冲池、陶瓷膜过滤装置、高氮收集池连接，所述高氮收集池经过脱氮回收利用，所述陶瓷膜过滤装置连接化学清洗装置，系统是集成安放在室内，封闭式管理，占地面积小，高效运行，稳定性高。

技术领域

本发明属于半导体领域，尤其涉及一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置。

背景技术

半导体行业是一个高能耗行业，在半导体生产制造过程中，会产生大量工业废水。显影液废水，就是产生于半导体生产中的光刻工序，废水中含有四甲基氢氧化铵(TMAH)，分子式为(CH₃)₄NOH,有一定的氨气味，具有强碱性。生化处理单元是通过生物作用，尤其是微生物的作用，完成有机物的分解和生物体的合成，将有机污染物转变成无害的气体产物(CO₂)、液体产物(水)以及富含有机物的固体产物。现有的显影液的处理方式效果不太好，比较昂贵。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置。本发明的的目的可以通过以下技术方案来实现：

一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置，包括废水收集池，pH调节池、生化处理单元、缓冲池、陶瓷膜过滤装置、化学清洗装置、高氮收集池，所述废水收集池储存显影液废水，通过管道依次与pH调节池、生化处理单元、缓冲池、陶瓷膜过滤装置、高氮收集池连接，所述高氮收集池经过脱氮回收利用，所述陶瓷膜过滤装置连接化学清洗装置；

所述生化化处理单元依次包括：缺氧池A、好氧池B、好氧池C、好氧池D，所述缺氧池A与pH调节池连接，所述好氧池D连接缓冲池；

所述缓冲池上方安装喷淋装置；

所述陶瓷膜过滤装置通过供水泵连接缓冲池底部，供水泵依次连接循环泵、陶瓷膜组件，所述供水泵和循环泵之间设有过滤器，所述陶瓷膜组件设有空气压缩机和冷冻机，所述陶瓷膜组件连接高氮收集池；

所述高氮收集池依次连接水泵、一级吹脱塔、二级吹脱塔、风机、氨气吸收塔，所述氨气吸收塔连接硫酸铵回收池和一级吹脱塔，所述一级吹脱塔和二级吹脱塔连接加药装置，所述二级吹脱塔连接出水端。

优选的，所述化学清洗装置包括清洗水箱、所述清洗水箱依次连接清洗泵、保安过滤器，所述保安过滤器连接陶瓷膜组件、陶瓷膜组件连接回清洗水箱，所述清洗水箱连接酸性加药装置和碱性加药装置，所述清洗水箱连接温控系统。

优选的，所述pH调节池内设有搅拌机和pH计。

优选的，所述缺氧池A、好氧池B、好氧池C、好氧池D为钢砼结构，所述缺氧池A内设有搅拌机，所述好氧池B、好氧池C、好氧池D内设有曝气盘，所述曝气盘连接鼓风机。

优选的，所述陶瓷膜组件通过回流管练级连接生化处理单元。

本发明的有益效果：

半导体的光刻工序产生的显影液废水，通过好氧和厌氧处理后，再通过陶瓷膜过滤系统处理。此系统包括废水收集池，PH调节池、生化处理单元、缓冲池、陶瓷膜过滤系统、化学清洗装置、高氮收集池，系统能够有效的去除显影液废水的污染物质，达到可排放的标准，而且能够再生回用，从而实现废水资源优化，系统是集成安放在室内，封闭式管理，占地面积小，高效运行，稳定性高。

附图说明

图1为一种处理显影液废水的陶瓷膜过滤装置的结构示意图。

图2为陶瓷膜过滤装置的结构示意图。

图3为高氮收集装置的结构示意图。

图4为化学清洗装置的结构示意图。