[发明专利]辐射单元及阵列天线有效

专利信息
申请号: 202010382924.8 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN111585006B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 李慧敏;刘正贵;成阳;孙小明;张友敏 申请(专利权)人: 武汉虹信科技发展有限责任公司
主分类号: H01Q1/24 分类号: H01Q1/24;H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q1/52;H01Q5/378
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张睿
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 辐射 单元 阵列 天线
【说明书】:

发明涉及5G通信基站天线技术领域,公开了一种辐射单元及阵列天线,该辐射单元,包括:介质基片、寄生贴片以及支撑件;所述支撑件的一端与所述介质基片相连,另一端与所述寄生贴片相连;所述介质基片的上表面设有辐射面和馈电网络,所述馈电网络对所述辐射面直接馈电,所述介质基片的下表面设有接地面。本发明提供的辐射单元,工作在2496~2690MHz的频带内,在具有低剖面特性的基础上,改善了隔离度和交叉极化比,结构简单,设计灵活,适合大规模批量生产。

技术领域

本发明涉及5G通信基站天线技术领域,特别是涉及一种辐射单元及阵列天线。

背景技术

随着5G时代的来临和5G网络的试商用部署,标志着基站主设备与大规模阵列天线的融合必然成为5G通讯趋势,massive MIMO天线的需求量将远大于传统天线,同时对5G天线的轻便性、低成本要求也越来越高。

大规模天线阵列系统中布阵空间大大减小,辐射单元间距小,因此辐射单元需要具备小型化,高隔离度、稳定增益和宽频带等特性。此外,低剖面辐射单元由于能够有效利用有限空间和降低成本而更受青睐。5G技术中辐射单元的设计需要同时满足各个指标要求,使得辐射单元设计成为一大技术难点。

发明内容

本发明实施例提供一种辐射单元及阵列天线,用以解决或部分解决现有的辐射单元体积大和成本高的问题。

第一方面,本发明实施例提供一种辐射单元,包括:介质基片、寄生贴片以及支撑件;所述支撑件的一端与所述介质基片相连,另一端与所述寄生贴片相连;

所述介质基片的上表面设有辐射面和馈电网络,所述馈电网络对所述辐射面直接馈电,所述介质基片的下表面设有接地面。

在上述技术方案的基础上,所述寄生贴片的边缘设有至少一个贯穿所述寄生贴片的上表面和下表面的第一槽口。

在上述技术方案的基础上,所述寄生贴片的两侧边缘分别设有一个贯穿所述寄生贴片的上表面和下表面的第二槽口,两个所述第二槽口相对于所述寄生贴片的轴线对称布置。

在上述技术方案的基础上,相平行布置的所述辐射面与所述寄生贴片的间距为工作频带范围内对应的最大波长的0.065~0.069倍。

在上述技术方案的基础上,所述支撑件由塑料制备而成。

在上述技术方案的基础上,所述馈电网络包括与所述辐射面的直角相连的第一微带馈线和第二微带馈线,对称布置的所述第一微带馈线和所述第二微带馈线与所述辐射面的中轴线相垂直。

在上述技术方案的基础上,所述馈电网络包括与所述辐射面的直角相连的第一微带馈线和第二微带馈线,对称布置的所述第一微带馈线和所述第二微带馈线与所述辐射面的中轴线相平行。

在上述技术方案的基础上,所述馈电网络包括与所述辐射面的直角相连的第一微带馈线和第二微带馈线,对称布置的所述第一微带馈线和所述第二微带馈线与所述辐射面的中轴线的夹角为45°。

在上述技术方案的基础上,所述馈电网络包括与所述辐射面的直角相连的第一微带馈线和第二微带馈线,所述第一微带馈线和所述第二微带馈线与所述辐射面的中轴线的夹角异同。

第二方面,本发明实施例提供一种阵列天线,包括上述技术方案所述的辐射单元。

本发明实施例提供的一种辐射单元及阵列天线,对电气特性产生主要影响的主要包括辐射面和寄生贴片,辐射面设置在介质基片的上表面,寄生贴片设置在辐射面的正上方。本发明实施例提供的辐射单元,工作在2496~2690MHz的频带内,在具有低剖面特性的基础上,改善了隔离度和交叉极化比,结构简单,设计灵活,适合大规模批量生产。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉虹信科技发展有限责任公司,未经武汉虹信科技发展有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010382924.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top