[发明专利]一种实验室用真空涂布台

权利要求书

1.一种实验室用真空涂布台，其特征在于，包括机架、沿前后方向安装在机架上的涂布台、安装在涂布台上的线棒，所述涂布台以其前端的宽边为支撑边旋转的安装在所述机架上，涂布时，涂布台的后端翘起，涂布台的台面与水平面间呈一锐角设置，所述涂布台内设置有真空腔，涂布台的台面上设置有若干与所述真空腔内腔相通的真空孔洞，所有所述真空孔洞沿台面的边缘一周间隔分布，所述真空孔洞的大小控制在5mm±0.5mm间，相邻两个所述真空孔洞间的间距控制在10mm±1mm间。

2.根据权利要求1所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，涂布时，涂布台的台面上所有的真空孔洞的轴心线方向与水平面的夹角均为90°。

3.根据权利要求1所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述涂布台的台面采用了陶瓷材料制成。

4.根据权利要求1所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述涂布台的台面采用了表面镀覆有一层防腐层的铝合金材料制成。

5.根据权利要求4所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述防腐层采用了真空镀覆的方式镀覆在铝合金材料的表面。

6.根据权利要求1所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述机架上、位于涂布台的下方还安装有用于驱动涂布台旋转的升降装置。

7.根据权利要求6所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述升降装置有两个，两个所述升降装置的输出端分别支撑在涂布台的后端下表面的两侧。

8.根据权利要求1所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述线棒通过线棒支架安装在涂布台上，所述涂布台的台面上设置有一组相互平行的导轨，所述线棒支架配合的安装在所述导轨内且沿所述导轨的长度延伸方向滑移，涂布时，所述线棒沿涂布台的长度方向由前到后进行涂布。

9.根据权利要求8所述的实验室用真空涂布台，其特征在于，所述导轨设置在真空孔洞的外侧。