[发明专利]光学膜制程设备

说明书

本揭露内容的实施例提供一种光学膜制程设备。光学膜制程设备包含输送系统、制程浴槽以及导液辊轮。输送系统用以承载并输送光学膜。光学膜经输送通过制程浴槽，而在光学膜的表面上留下液体。导液辊轮以接触表面接触光学膜的表面。接触表面具有微米级粗糙化结构。

技术领域

本揭露内容是有关于一种光学膜制程设备，特别是关于一种具有导液辊轮的光学膜制程设备。

背景技术

在光学膜的制程中，常需要将光学膜浸泡于各种制程浴槽中以进行染色交联制程、表面处理制程或水洗制程，接着清洗光学膜的表面之后并干燥后才进行光学膜的收卷。然而，在光学膜经过制程浴槽的处理，有可能因为大量处理液或清洗液残留在光学膜，造成后续的干燥制程较为费时或消耗较高能量，且积液的重量也可能使光学膜产生皱折，进而对光学膜的光学性质有不良的影响。

发明内容

本揭露内容是有关于一种光学膜制程设备。实施例中，光学膜制程设备的导液辊轮以接触表面的微米级粗糙化结构接触光学膜的表面，使得导液辊轮与光学膜的接触方式由传统的面接触转换为点接触，这适当地减少了导液辊轮与光学膜的接触面积，因而可以降低导液辊轮与光学膜的表面之间的摩擦阻力，降低光学膜的断裂或刮伤机率，进而可以提高光学膜的制程良率与品质。

根据本揭露内容的一实施例，提出一种光学膜制程设备。光学膜制程设备包含输送系统、制程浴槽以及导液辊轮。输送系统用以承载并输送光学膜。光学膜经输送通过制程浴槽，而在光学膜的表面上留下液体。导液辊轮以接触表面接触光学膜的表面。接触表面具有微米级粗糙化结构。

附图说明

为让本揭露内容的特征和优点能更明显易懂，下文特举不同实施例，并配合所附附图作详细说明如下：

图1绘示根据本揭露内容的一实施例的一种光学膜制程设备及采用此设备的光学膜制程示意图。

图2绘示根据本揭露内容的另一实施例的一种光学膜制程设备及采用此设备的光学膜制程示意图。

图3绘示根据本揭露内容的一实施例的一种导液辊轮的立体示意图。

图4绘示根据本揭露内容的另一实施例的一种导液辊轮的立体示意图。

图5绘示根据本揭露内容的又一实施例的一种导液辊轮的剖面示意图。

【符号说明】

1、2～光学膜制程设备；

10～输送系统；

20～喷液装置；

30、30’、30A、30B、30C、31～导液辊轮；

40～干燥室；

50～制程浴槽；

60～除液装置；

70、620、630～喷洗装置；

100～光学膜；

100a～表面；

200、200’、200A、200B、200C～微米级粗糙化结构；

210A～凹部；

210B、210C～沟槽；

220A～顶部；

220B～突出结构；

220C～条状突起结构；

230～固定轴；

240～辊轮主体；

610～压辊组；

611～第一辊轮；