[发明专利]危废填埋场的垂直防渗帷幕缺陷位置的抽水实验确定系统在审

专利信息
申请号: 202010390324.6 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN111707648A 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 陈俊 申请(专利权)人: 乐清市芮易经济信息咨询有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01M3/20;G01M3/02;E02D33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325600 浙江省温州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 危废填埋场 垂直 防渗 帷幕 缺陷 位置 抽水 实验 确定 系统
【权利要求书】:

1.一种危废填埋场的垂直防渗帷幕缺陷位置的抽水实验确定系统,其特征在于:所述抽水实验确定系统包括缺陷判断模块和缺陷确定模块,所述缺陷判断模块包括检测位置生成单元和数据处理单元,所述数据处理单元与缺陷确定模块连接,所述检测位置生成单元用于生成实验检测位置,所述数据处理单元用于对实验检测位置的信息进行数据采集、数据分析和数据判断,所述缺陷确定模块包括缺陷区域生成单元和缺陷位置探测单元,所述缺陷区域生成单元用于根据数据处理单元的结果生成缺陷区域,所述缺陷位置探测单元用于探测缺陷的具体位置;

所述检测位置生成单元包括抽水井位置生成单元和定位观测井生成单元,所述数据处理单元包括水位数据采集单元、水位数据比较单元、示踪剂含量检测单元、示踪剂含量比较单元和综合判断单元,所述抽水井位置生成单元用于生成抽水井的最佳实验位置,所述定位观测井生成单元用于生成定位观测井的实验位置,所述水位数据采集单元用于采集定位观测井中的水位数据,所述水位数据比较单元用于比较定位观测井中的水位变化速度的大小,并根据水位变化速度的大小选取两个定位观测井为第一候选井,所述示踪剂含量检测单元用于检测抽水井中荧光示踪剂的含量,所述示踪剂含量比较单元用于比较各个荧光示踪剂含量的大小,并根据荧光示踪剂含量的大小选取两个定位观测井为第二候选井,所述综合判断单元根据水位数据比较单元和示踪剂含量比较单元的比较结果判断垂直防渗帷幕是否产生缺陷;

所述抽水井位置生成单元包括中心点搜寻单元和中心点判断单元,所述中心点搜寻单元用于搜寻确定危废填埋场的中心点和防渗帷幕边界的中心点,所述中心点判断单元用于判断危废填埋场的中心点和防渗帷幕边界的中心点之间的位置关系,所述定位观测井生成单元包括随机生成单元和跟随生成单元,所述随机生成单元用于随机生成一个定位观测井的位置,所述跟随生成单元根据随机生成的定位观测井的位置生成其他定位观测井的位置;

所述综合判断单元包括位置比较单元、阈值比较单元和缺陷区域划分单元,所述阈值比较单元包括示踪剂阈值比较单元和水位变化速度阈值比较单元,所述位置比较单元用于判断两个第一候选井与两个第二候选井的位置是否相同,所述示踪剂阈值比较单元用于比较两个候选井示踪剂含量之差与示踪剂含量阈值之间的关系,所述水位变化速度阈值比较单元用于比较两个候选井水位变化速度平均值之差与平均值阈值之间的关系,所述缺陷区域划分单元根据阈值比较单元的结果划分出防渗帷幕上具体的缺陷位置。

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