[发明专利]一种混合型布洛赫表面激元光波导结构

权利要求书

1.一种混合型布洛赫表面激元光波导结构，其特征在于，包括包覆层、嵌于包覆层中的高折射率介质纳米线，还包括多层膜结构元件和夹在高折射率介质纳米线和多层膜结构元件之间的低折射率介质缝隙层；所述多层膜结构元件依次包括透明电介质基底、多层介质材料层、高折射率介质截断层，其中多层介质材料层由高折射率介质材料层与低折射率介质材料层交替叠加而成；高折射率介质截断层的材料折射率高于低折射率介质缝隙层以及包覆层的材料折射率，低折射率介质缝隙层和包覆层的材料为相同材料或不同材料，低折射率介质缝隙层和包覆层的材料折射率的最大值与高折射率介质截断层的材料折射率的比值小于0.75。

2.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，所述低折射率介质缝隙层高度范围不大于所传输的光信号的波长的0.05倍。

3.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，所述高折射率介质截断层的高度范围不大于所传输的光信号的波长的0.2倍。

4.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，所述结构中高折射率介质纳米线的材料为能产生介质导波模式的硅、二氧化钛、氮化硅、硫化锌、氧化铈、氧化锆、砷化镓中的任何一种；所述低折射率介质缝隙层采用二氧化硅、二氟化镁、冰晶石中的任何一种。

5.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，所述高折射率介质截断层采用硅、二氧化钛、氮化硅、硫化锌、氧化铈、氧化锆、砷化镓中的任何一种。

6.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，

A)所述高折射率介质材料层与所述高折射率介质截断层的材料折射率相同；

B)所述低折射率介质材料层与所述低折射率介质缝隙层的材料折射率相同。

7.根据权利要求1所述的光波导结构，其特征在于，所述高折射率介质纳米线的宽度范围不大于所传输的光信号的波长的0.4倍；所述高折射率介质纳米线的高度范围不大于所传输的光信号的波长的0.5倍。