[发明专利]一种高速外部光学补偿方法及系统有效
申请号: | 202010392267.5 | 申请日: | 2020-05-11 |
公开(公告)号: | CN111477177B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 钱慧;李浪浪;刘品德;陈显锋 | 申请(专利权)人: | 苏州佳智彩光电科技有限公司 |
主分类号: | G09G3/3225 | 分类号: | G09G3/3225;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙) 44451 | 代理人: | 罗志伟 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高速 外部 光学 补偿 方法 系统 | ||
本发明提供了一种高速外部光学补偿方法及系统,该高速外部光学补偿系统包括依次排布的OTP工站、相机采集工站和烧录工站,所述OTP工站进行OTP工艺,所述相机采集工站进行相机拍照采集工艺和算法工艺,所述烧录工站进行烧录工艺,通过OTP工站、相机采集工站和烧录工站能够对多块屏体进行同时处理。本发明的有益效果是:本发明采用多线程分布式作业,实现多块屏体按照不同流程布局,同时进行处理,效率高,而且Demura补偿的准确性高。
技术领域
本发明涉及AMOLED屏幕技术领域,尤其涉及一种高速外部光学补偿方法及系统。
背景技术
有机发光显示二极管(OLED)作为一种电流型发光器件已越来越多地被应用于高性能显示中。由于它自发光的特性,与LCD相比,AMOLED具有高对比度、超轻薄、可弯曲等诸多优点。亮度均匀性和残像仍然是它目前面临的两个主要难题,要解决这两个问题,除了工艺的改善,不得不用到外部外部光学补偿(即Demura)技术。
一般Demura补偿系统都是在一个工站做完四道工艺流程,依次为Demura流程设置OTP,图像采集,算法计算以及烧录。目前Demura流程设置OTP,相机采集和烧录,基本上根据优化提升速度的空间很有限。因为这三道工艺和硬件挂钩,硬件的执行速度很大程度上影响这工艺的速度。至于通过优化算法计算速度来降低整体mura补偿速度,提升空间也有限,如果为了节省数据采用压缩或抽样的方法,或多或少均会降低mura补偿的效果,不利于产品等级的提升。
发明内容
随着OLED屏体的批量生产,mura补偿成功率和Demura设备的产能成为评判设备优劣的重要指标。mura补偿速度的提升,决定了产量的增加,从而可大幅减少经济成本。高速外部外部光学补偿技术提出的目的就是为了提升mura补偿速度,降低生产线的生产效率,从而达到降低成本的作用。
针对背景技术的问题,为了解决Demura设备的效率,提高单位时间内的产能效率,本发明提供了一种高速外部光学补偿方法。
本发明提供了一种高速外部光学补偿方法,包括如下步骤:
步骤1:在屏体A投放完成后,设备便会发送信号,连接Mura补偿控制模块,Mura补偿控制模块收到设备信号后,在OTP工站点亮屏体,启动OTP的工艺流程;
步骤2:Mura补偿控制模块等待OTP工站、相机采集工站和烧录工站的工艺完成后,Mura补偿控制模块便发送信号给设备,设备运转;
步骤3:当设备停止后,设备会发送对应信号到Mura补偿控制模块,调度屏体A进入相机采集工站进行相机拍照采集工艺和算法工艺,相机采集工站每采集到一张图片便会将图片投入到算法线程中去,实现相机拍照采集和算法同时进行;同时,流入屏体B进入OTP工站进行OTP工艺;
步骤4:Mura补偿控制模块等待OTP工站、相机采集工站和烧录工站的工艺完成后,Mura补偿控制模块便发送信号给设备,设备运转;
步骤5:当设备停止后,设备会发送对应信号到mura补偿控制模块,OTP工站等待屏体C流入;相机采集工站开始进行屏体B的相机拍照采集工艺和算法工艺;屏体A做完相机拍照采集工艺和算法工艺后,便直接在烧录工站进行烧录工艺;
步骤6:Mura补偿控制模块等待OTP工站、相机采集工站和烧录工站的工艺完成后,Mura补偿控制模块便发送信号给设备,设备运转;
步骤7:当设备停止后,设备会发送对应信号到mura补偿控制模块,OTP工站等待屏体D流入;相机采集工站开始进行屏体C的相机拍照采集工艺和算法工艺;屏体B做完相机拍照采集工艺和算法工艺后,便直接在烧录工站进行烧录工艺;屏体A完成烧录工艺后,人工取出或者流入下游设备;
步骤8:若有屏体继续进入,则按照先后顺序依次进入OTP工站、相机采集工站和烧录工站并进行对应工艺的处理。
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